用于针尖增强拉曼光谱的金属修饰的AFM针尖及其制法制造技术

技术编号:10074802 阅读:257 留言:0更新日期:2014-05-24 02:13
本发明专利技术属于物理化学和近场拉曼光谱学领域,特别涉及用于针尖增强拉曼光谱(TERS)的金属修饰的AFM针尖及其制备方法。本发明专利技术的金属修饰的AFM针尖是在AFM针尖的表面修饰有Cu纳米膜,在Cu纳米膜的表面修饰有Au或Ag纳米膜。本发明专利技术的用于TERS的金属修饰的AFM针尖,一般可使拉曼光谱增强10~15倍,优于仅以Au或Ag纳米膜修饰的AFM针尖,同时该AFM针尖亦可用于导电AFM等工作。本发明专利技术的制备方法具有简便、易操控、成功率高等特点,制备出的AFM针尖的拉曼光谱的增强性能较好且稳定。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于物理化学和近场拉曼光谱学领域,特别涉及用于针尖增强拉曼光谱(TERS)的金属修饰的AFM针尖及其制备方法。
技术介绍
原子、分子是决定物质物理化学性质的最基本单元。目前,科学家们在纳米尺度分子水平甚至是单分子水平研究物质的物理化学性质时,期望同时获取物质的形貌、化学成分及化学结构等关键信息。但由于传统拉曼(Raman)技术的光学分辨率的限制及较低的灵敏度,无法在纳米尺度完成对物质分子水平甚至单分子物理化学性质的研究;表面增强拉曼光谱(SERS)技术虽可在纳米尺度研究物质的化学成分、结构等信息,但却无法在分子水平研究物质的形貌;扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)、扫描探针显微镜(SPM)技术虽可在纳米尺度研究物质的形貌,却无法在纳米尺度同时获取物质的化学组分、化学结构等关键物理化学性质;以SPM结合Raman的针尖增强拉曼光谱(TERS)技术则可成功应用于上述研究。在进行纳米尺度分子水平甚至单分子水平的研究时,TERS技术可以同时获取物质的形貌图及带有大量光谱信息的拉曼光谱图。迄今,TERS技术已在表面科学、纳米技术、生物电子等众多领域获得广泛应用,并逐渐发展成为原位、实时、分子水平条件下研究物质物理化学性质重要的、多功能技术手段。在已研究的TERS技术中,基于原子力显微镜(AFM)的TERS(AFM-TERS)技术因AFM技术的优势,在进行TERS研究时还可获得物质的相图等信息,而且该技术还可适用于大气环境、(超)真空/(超)低温条件,因此基于AFM的TERS技术具有广泛的应用前景和发展空间。在AFM-TERS技术中,以金属纳米颗粒或金属纳米膜修饰后的AFM针尖是该技术的核心。但AFM-TERS针尖的修饰技术仍存在一些技术难题需要克服。目前,针尖的修饰一般通过热蒸镀方法在针尖上修饰具有一定粗糙度的Au或Ag纳米膜来完成,一般可获得2~4倍的TERS增强性能。但是,热蒸镀技术存在操作繁琐、金属的蒸镀速率不稳定、镀膜易脱落等问题,同时由于AFM针尖的材料多为Si或Si3N4,Au或Ag在针尖上的延展性和粘附性非常差也会导致Au或Ag过度聚集、镀层易脱落、针尖的重复性差、制备针尖的成功率低等问题,这些问题直接影响了针尖的性能或寿命。此外,虽然有人尝试过在针尖上修饰其它特殊材料如碳管等制备TERS用AFM针尖,但这些方法过于繁琐、可控性、重复性均非常差,且成本很高。本专利技术通过金属辅助修饰的方法,可简便地制备出延展性和粘附性好、增强性能较高且稳定的用于TERS的金属修饰的AFM针尖。
技术实现思路
本专利技术的目的之一是提供用于针尖增强拉曼光谱(TERS)的金属(Au或Ag和Cu)修饰的AFM针尖。本专利技术的目的之二是提供以磁控溅射法及以Cu作为基底物质,制备用于针尖增强拉曼光谱(TERS)的金属(Au或Ag和Cu)修饰的AFM针尖的方法。本专利技术的用于针尖增强拉曼光谱(TERS)的金属修饰的AFM针尖是在AFM针尖的表面修饰有Cu纳米膜,在Cu纳米膜的表面修饰有Au或Ag纳米膜。所述的Cu纳米膜的厚度优选为1~10nm。所述的Au或Ag纳米膜的厚度优选为10~50nm。本专利技术的用于针尖增强拉曼光谱(TERS)的金属修饰的AFM针尖的制备方法:将AFM针尖固定于磁控溅射仪中的样品板上,将Cu和Au或Ag靶材分别置于2个靶腔中,首先在AFM针尖上溅射制备得到Cu纳米膜,磁控溅射仪的工作条件为:在惰性气体(如Ar)保护下,工作压力为0.1~1Pa,直流电功率为50~100W;然后立即在表面修饰有Cu纳米膜的AFM针尖上溅射制备得到Au或Ag纳米膜,磁控溅射仪的工作条件为:在惰性气体(如Ar)保护下,工作压力为0.01~0.8Pa,直流电功率为50~100W。所述的AFM针尖与Cu和Au或Ag靶材之间的距离优选都为100~500mm。所述的磁控溅射仪在制备Cu纳米膜及制备Au或Ag纳米膜时的溅射温度优选为30~300℃。所述的制备得到Cu纳米膜时的溅射时间优选为10~100s。所述的制备得到Au或Ag纳米膜时的溅射时间优选为100~550s。所述的磁控溅射仪中的主控室的压力优选为1×10-7~1×10-3Pa。所述的AFM针尖在固定于磁控溅射仪中之前,可先进行净化处理。所述的净化处理是将AFM针尖放置于等离子体仪中,以氩等离子体气流净化处理AFM针尖,其净化条件为:射频功率为25~75W、压力为0.1~3.5Pa、净化处理的时间为5~50min;或将AFM针尖放置于紫外臭氧机中,以紫外光和臭氧分解和氧化AFM针尖上的污染物,其工作条件为:紫外功率为100~150W、氧气的流量为100~600ml/min、温度为20~100℃、净化处理的时间为10~60min。本专利技术的用于TERS的金属修饰的AFM针尖,是以Cu纳米膜作为溅射Au或Ag纳米膜时的基底物质,一般可使拉曼光谱增强10~15倍,而仅以Au或Ag纳米膜修饰的AFM针尖其一般仅可获得2~4倍的拉曼光谱增强结果,因此,Au或Ag纳米膜和Cu纳米膜修饰的AFM针尖在TERS的性能上优于Au或Ag纳米膜修饰的AFM针尖,同时该AFM针尖亦可用于导电AFM等工作;同时该AFM针尖修饰的方法的成功率高,可高达70%。本专利技术的制备方法具有简便、易操控、成功率高等特点,制备出的AFM针尖的拉曼光谱的增强性能较好且稳定。附图说明图1.本专利技术实施例1的Au-Cu修饰后的AFM针尖的石墨烯增强拉曼光谱。图2.对比例1的Au修饰后的AFM针尖的石墨烯增强拉曼光谱。图3.本专利技术实施例2的Ag-Cu修饰后的AFM针尖的SEM图。图4.本专利技术实施例2的Ag-Cu修饰后的AFM针尖的石墨烯增强拉曼光谱。图5.对比例2的Ag修饰的AFM针尖的石墨烯增强拉曼光谱。图6.本专利技术实施例3的Au-Cu修饰后的AFM针尖的石墨烯增强拉曼光谱。图7.对比例3的Au修饰后的AFM针尖的石墨烯增强拉曼光谱。具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术作进一步说明。下述实施例中所述实验方法,如无特殊说明,均为常规方法;所述材料,均可从商业途径获得,实验中采用商用AFM针尖(购自瑞士Nanosensor公司)。实施例1(一)清洗:将AFM针尖放置于紫外臭氧机中,以紫外光和臭氧分解和氧化AFM针尖上的污染物,其工作条件为:紫外功率为110本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于针尖增强拉曼光谱的金属修饰的AFM针尖,其特征是:在
AFM针尖的表面修饰有Cu纳米膜,在Cu纳米膜的表面修饰有Au或Ag纳
米膜。
2.根据权利要求1所述的用于针尖增强拉曼光谱的金属修饰的AFM针
尖,其特征是:所述的Cu纳米膜的厚度为1~10nm。
3.根据权利要求1所述的用于针尖增强拉曼光谱的金属修饰的AFM针
尖,其特征是:所述的Au或Ag纳米膜的厚度为10~50nm。
4.一种权利要求1~3任意一项所述的用于针尖增强拉曼光谱的金属修饰
的AFM针尖的制备方法,其特征是:将AFM针尖固定于磁控溅射仪中的样
品板上,将Cu和Au或Ag靶材分别置于2个靶腔中;首先在AFM针尖上溅
射制备得到Cu纳米膜,磁控溅射仪的工作条件为:在惰性气体保护下,工作
压力为0.1~1Pa,直流电功率为50~100W;然后在表面修饰有Cu纳米膜的
AFM针尖上溅射制备得到Au或Ag纳米膜,磁控溅射仪的工作条件为:在惰
性气体保护下,工作压力为0.01~0.8Pa,直流电功率为50~100W。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征是:所述的AFM针尖与Cu
和Au或Ag靶材之间的距离都为100~50...

【专利技术属性】
技术研发人员:万立骏路培王栋
申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
类型:发明
国别省市:

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