薄膜沉积设备以及用其沉积薄膜的方法技术

一种薄膜沉积设备和利用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。该薄膜沉积设备包括：腔体，具有衬底和安装在衬底上的掩模；沉积源，向衬底供应沉积气体；以及掩模测量单元，测量腔体内的掩模的状态。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种薄膜沉积设备和利用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。该薄膜沉积设备包括：腔体，具有衬底和安装在衬底上的掩模；沉积源，向衬底供应沉积气体；以及掩模测量单元，测量腔体内的掩模的状态。【专利说明】相关申请的引用本申请要求于2012年11月5日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请10-2012-0124473的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本公开的实施方式涉及薄膜沉积设备以及用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。
技术介绍
在薄膜成形(例如，有机发光二极管显示器(OLED)的薄膜的成形)过程中，沉积技术可包括生成沉积源的蒸汽、以及将该蒸汽沉积在衬底的表面上。例如，沉积程序可包括将掩模放置在衬底上并使得来自沉积源的蒸汽通过掩模上的孔，从而在衬底上形成具有期望图案的薄膜。
技术实现思路
本专利技术的实施方式提供一种具有改进结构以直接且快速地检测掩模上出现的缺陷的薄膜测量设备以及利用该薄膜测量设备沉积薄膜的方法。根据本专利技术的一个实施方式，提供一种薄膜沉积设备，包括:腔体，具有衬底和安装在衬底上的掩模；沉积源，向衬底供应沉积气体；以及掩模测量单元，测量腔体内的掩模的状态。薄膜测量单元可包括单个测量装置，以测量掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。`掩模测量单元可包括多个测量装置。多个测量装置中的每一个被分配为测量掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度中的不同因素。掩模可被分为与多个测量装置的数量对应的多个区域。因此，多个测量装置中的每一个可被分配多个区域中的一个区域，并针对掩模的所分配的区域测量形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。根据本专利技术另一个方面，提供一种沉积薄膜的方法，该方法包括:将衬底和掩模安装在包括沉积源和掩模测量单元的腔体内；利用掩模测量单元测量掩模的状态；以及根据测量结果在必要时更换掩模。薄膜测量单元可包括单个测量装置，以测量掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。掩模测量单元可包括多个测量装置。多个测量装置中的每一个测量被分配给其的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度中的不同因素。所述掩模被分为与多个测量装置的数量对应的多个区域。因此，多个测量装置中的每一个可被分配多个区域中的一个区域，并针对掩模的所分配的区域测量形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。根据本专利技术的实施方式的薄膜沉积设备以及利用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法能够提前且直接测量掩模上的缺陷，因而促使有缺陷的掩模的更换。因此，可减少之后发生的缺陷，并可显著提高生产效率。【专利附图】【附图说明】通过参照附图详细描述示例性实施方式，特征对本领域技术人员将更加显而易见，在附图中:图1A和图1B示出了根据实施方式的薄膜沉积设备的构造；图2A和图2B示出了根据另一个实施方式的薄膜沉积设备的构造；图3A和图3B示出了根据另一个实施方式的薄膜沉积设备的构造。【具体实施方式】以下将参照附图详细描述实施方式。首先，参照图1A和图1B描述根据实施方式的薄膜沉积设备100。参照图1A和图1B，根据实施方式的薄膜沉积设备100可包括:腔体130，具有衬底20 (即沉积目标)和牢固附接在衬底20上的掩模10 (用于形成期望图案);沉积源120 (用于向掩模10和衬底20喷涂沉积气体)；以及掩模测量单元110 (用于直接检查腔体130内的掩模10的状态)。薄膜沉积设备100还可包括掩模框架11。因此，当沉积源120在腔体130中排出沉积气体时，沉积气体穿过掩模10上的孔并且沉积在衬底20上，从而形成具有预定图案的薄膜。如上所述，掩模测量单元110可安装在腔体130中，以直接测量腔体130内的掩模10上的缺陷的存在。因此，与从所产生材料推断掩模110的状态的间接测量技术相比，该直接测量可有助于进行更快且更精确的确定和测量。掩模测量单元110可包括单个测量装置111，其测量，例如掩模10的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。例如，可通过利用红外线照射掩模10并测量反射光的量来确定污染水平。当掩模10被严重污染时，大多红外光可被吸收，从而减少反射光的量。而且，在利用相机获取掩模10的照片之后，通过将形状精确度、孔尺寸、孔均匀度和定位精度与预先输入对应参考值进行比较，可确定缺陷的存在。常规三轴致动器允许测量装置111沿X、Y、Z轴移动。测量装置111可移动并跨越腔体130内的掩模10，以测量掩模10的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平和定位精度。下面将描述利用该薄膜沉积设备100沉积薄膜的方法。首先，在将掩模10和衬底20安装在用于沉积过程的腔体130中之后，测量装置111可在沉积源120工作之前检查掩模10的状态。测量装置111随后可移动并跨越掩模10以测量掩模10的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平和定位精度。在检测到掩模10的状态存在问题时，可立即用另一个掩模10来更换有缺陷的掩模10，并对另一个掩模10进行缺陷性检查。当掩模10的状态没有被检测出问题时，测量装置111可移动至掩模10外，随后沉积源120可开始将薄膜沉积在衬底20上。 掩模10的上述测量可在沉积开始之前或在沉积完成之后执行。利用测量装置111对腔体130中掩模10进行检查可有助于直接且快速地检测掩模10中的故障，从而促使对有缺陷的掩模10的更换。因此，使用该薄膜沉积设备100可有助于减少产品故障率并可有助于改善生产效率。图2A和图2B示出了根据另一个实施方式的薄膜沉积设备200的构造。参照图2A和图2B，根据本专利技术的实施方式的薄膜沉积设备200可包括:腔体230，具有衬底20 (即沉积目标)和牢固附接在衬底20上的掩模10 (用于形成期望图案)；沉积源220 (用于向掩模10和衬底20喷涂沉积气体)；以及掩模测量单元210 (用于直接检查腔体230内的掩模10的状态)。因此，当沉积源220在腔体230中排出沉积气体时，沉积气体通过掩模10上的孔沉积在衬底20上，从而形成具有预定图案的薄膜。掩模测量单元210可包括多个测量装置，例如，第一测量装置211和第二测量装置212。第一测量装置211可测量掩模10的污染水平，而第二测量装置212可测量掩模10的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度以及定位精度。例如，作为如前一个实施方式中的使用单个测量装置111测量全部因素的替代，可向第一测量装置211和第二测量装置212分配一些需测量的因素，其中，被分配的因素彼此不同。例如，第一测量装置211可通过利用红外线照射掩模10并测量反射光的量来确定污染水平。当掩模10被严重污染时，大多红外光被吸收，从而减少反射光的量。另外，在利用相机获取掩模10的照片之后，第二测量装置212可通过将形状精确度、孔尺寸、孔均匀度和定位精度与预先输入的对应参考值进行比较来测量出形状精确度、孔尺寸、孔均匀度和定位精度。常规三轴致动器允许第一测量装置211和第二测量装置212沿X、Y、Z轴移动。第一测量装置211和第二测量装置212可移动并跨越腔体230内的掩模10，以分别测量掩模10的污染水平、以及形状精确度、孔尺寸、孔均匀度和定位精度。下面将描述利用该薄膜沉积设备200沉积薄膜的方法。首先，在将掩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜沉积设备，包括：腔体，具有衬底和安装在所述衬底上的掩模；沉积源，向所述衬底供应沉积气体；以及掩模测量单元，测量所述腔体内的所述掩模的状态。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩政洹，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：