提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的方法技术

一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的方法，通过加入的有效清洁手段，并对各清洁手段进行了合理的排序，实现了对屏邦定区域的有效清洁，使邦定区域内存在的各种类型污染得到有效清除。提高了荫罩式等离子显示屏SMPDP的成品率和邦定效率，使荫罩式等离子显示屏的封接成品率达到99%以上，使得荫罩式等离子显示屏进入大规模生产成为可能。本发明专利技术提高了邦定工艺的可靠性和稳定性，大大降低了出现短路、断路后因反复修补给屏带来的安全隐患，具有提高邦定工艺安全性，提高了荫罩式等离子显示屏的成品率和工作效率的优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种荫罩式等离子体显示屏提高绑定质量的方法，尤其是荫罩式等离子显示屏制造过程中邦定区域的清洁方法，具体地说是一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的方法。
技术介绍
20世纪90年代初兴起的等离子体平板显示屏以其数字化，大屏幕，高分辨率，高清晰度，宽视角以及厚度薄，重量轻等优点受到广泛关注。目前现有的等离子体平板显示屏PDP采用三电极交流等离子体平板显示屏AC-PDP，三个电极呈正交状分布于前后基板上，放电则在两个基板之间进行，前基板上水平分布着维持电极即X电极和扫描电极即Y电极，两者一起被称为显示电极，在后基板上竖直分布着寻址电极即A电极，X电极和Y电极相互平行并与A电极正交。在AC-PDP显示中，在维持期，X电极和Y电极交替加上高压，使在寻址期积累了壁电荷的单元放电，从而实现图像的显示。荫罩式等离子显示屏SMPDP中采用的是二个电极，分别是前基板上的维持电极，即X电极，后基板上的寻址电极，即A电极的交流对向放电模式。X电极和A电极正交，在SMPDP显示中，在维持期，只在X电极上加正负交替的高压，使寻址期积累了壁电荷的单元放电，从而实现图像显示。荫罩式等离子显示屏在生产过程中，绑定(Bonding)前要对邦定区域表面进行清洁，现有的清洁方法为：应用酒精简单擦拭后即投入邦定，在生产人员流动、环境温湿度以及其他不确定因素的影响下，屏邦定区域的洁净度无法得到保证，使得水气、杂质、毛屑可能遗留在邦定区域或电极之间，造成压着区域内有气泡、短路或短路，以致虚修补。而反复修补不仅对屏的安全存在很大威胁，又大大降低了绑定效率，也使邦定后整机的产品质量无法得到保证。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对当前邦定引线区洁净程度因基板电极与FPC电极邦定后，中间可能残留的部分水气、杂质等污染物，将导致引线接触不良或邦定后短路的现象，大大降低绑定效率和邦定成品率的问题，专利技术一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的方法，应用新的仪器对邦定电极引线区进行清洁，可有效提高引线洁净程度，解决上述问题，提高生产效率和生产成品率及产品的使用寿命。本专利技术的技术方案是：一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的有效方法，其特征是：（1）.应用三种不同的清洁手段，组合成一套清洁体系，有效去除邦定区域表面残留的粉尘，毛屑，油污，指印等污染；（2）.所述的三种清洁手段分别为：（a）.应用工业酒精和无尘布粗洗。作用：利用部分有机物溶于酒精的特性，初步溶解去除引线电极表面的油污，粉尘，指印等。优点：1.部分有机物容于酒精，便于清除部分有机污染物；2.擦洗也可以使一些灰尘类污染被清洗掉；3.酒精易挥发，擦后易干，清洁所用时间较短；4.挥发后的酒精不会对超静环境造成污染。（b）.应用离子风枪去除静电，并吹去浮尘。作用：风枪吹出的离子风可去除屏邦定区域所带静电，防止静电吸附作用对细小灰尘的吸附所造成的二次污染，如吸附毛屑，小粉尘等；加快（a）方法中酒精挥发速度，并进一步去除酒精挥发后可能留下的表面浮尘。优点：1.操作简单快捷；2.毛屑、粉尘等表面浮尘的清洁效果好；3.只需提供压缩空气和电等基础条件，对环境条件的要求低。（c）.应用高功率紫外线光源（UV）对区域表面做清洁处理。作用：UV照射引起氧化反应，表面污染物有机分子结合被强光能切断、氧化，分解成CO2和H2O等易挥发性物质，最终挥发掉；照射后表面形成有利表面接着的如OH，COO，CO，COOH等原子团，表面接着性得到飞跃性地提高。优点：1.     清洗后洁净程度极高，接着性好（表面单分子层以下）；2.     清洗时间短（秒单位照射）；3.     无液体表面张力的影响，对细微部分清洗效果显著（如引线电极边缘和底部）；4.     不会对材料的表面产生损伤；5.     无需加热和药液等处理，避免大量药液消耗，运行成本低；6.     有杀死细菌和微生物的功效；7.     简单、环保，无二次污染。本专利技术所述的三种清洁手段之间的顺序不可颠倒、调换。本专利技术将三种清洁手段相组合，相互弥补，使可被清洗污染物的范围得以扩大，清洗后的洁净程度显著提高。本专利技术的有益效果是：本专利技术在荫罩式等离子显示屏的制造过程中，提高了邦定引线区的洁净度，使绑定工艺的稳定性得以提升，保证了邦定质量，提高了荫罩式等离子显示屏SMPDP的生产成品率和工作效率，使荫罩式等离子显示屏进入大规模生产成为可能。本专利技术通过将三种清洁手段相组合，相互弥补，使可被清洗污染物的范围得以扩大，清洗后的洁净程度显著提高，实现邦定工艺的稳定高质进行。提高了荫罩式等离子显示屏SMPDP的生产成品率和工作效率，也使产品生产后的质量得到了保证，延长机器使用寿命。使荫罩式等离子显示屏的邦定成品率率达到99%以上，使得荫罩式等离子显示屏进入大规模生产成为可能。 附图说明图1是应用酒精、无尘布对邦定区域进行清洁示意图。图2是应用离子风枪对邦定区域进行清洁示意图。图3是应用紫外线照射对邦定区域进行清洁示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的说明。如图所示，一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的有效方法，它包括以下步骤：（1）. 荫罩式等离子体显示屏邦定时，应用无尘布蘸取工业酒精对屏引线区进行粗洗，清除表面附着的有机污染物、灰尘等（如图1），利用酒精易挥发、无污染的优点，可以提高清洁效率并保证超净环境的污染。（2）. 应用离子风枪吹出的离子风，可以吹去附着在邦定区域表面的毛屑、灰尘，并去除屏邦定区域所带的静电，防止该区域所带电荷产生静电吸附，将细毛屑、灰尘再次吸附过来造成二次污染（如图2）；此步骤还可以加快（1）步骤中酒精挥发的速度，并进一步去除酒精挥发后可能留下的表面浮尘。操作简单快捷，对环境条件要求低。（3）.应用高功率紫外线光源（UV）对邦定区域表面做清洁处理（如图3）。可以使表面污染物的分子结合被切断，从而分解污染物。清洗后洁净程度极高，接着性好；不会对材料的表面产生损伤；清洁处理所用时间短。本专利技术所述的三种清洁手段之间的顺序不可颠倒、调换。具体实施时：如图所示，一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的有效方法，它包括以下步骤：（1）. 荫罩式等离子体显示屏邦定时，应用无尘布蘸取工业酒精对屏引线区进行粗洗，清除表面附着的有机污染物、灰尘等（如图1），利用酒精易挥发、无污染的优点，可以提高清洁效率并保证超净环境的污染。（2）. 应用离子风枪吹出的离子风，可以吹去附着在邦定区域表面的毛屑、灰尘，并去除屏邦定区域所带的静电，防止该区域所带电荷产生静电吸附，将细毛屑、灰尘再次吸附过来造成二次污染（如图2）；此步骤还可以加快（1）步骤中酒精挥发的速度，并进一步去除酒本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的方法，它包括以下步骤：（a）.?荫罩式等离子体显示屏邦定时，应用无尘布蘸取工业酒精对屏引线区进行粗洗，清除表面附着的有机污染物、灰尘，利用酒精易挥发、无污染的优点，可以提高清洁效率并保证超净环境的污染；（b）.用离子风枪吹出的离子风，吹去附着在邦定区域表面的毛屑、灰尘，并去除屏邦定区域所带的静电，防止该区域所带电荷产生静电吸附，将细毛屑、灰尘再次吸附过来造成二次污染；?（c）.应用高功率紫外线光源（UV）对邦定区域表面做清洁处理；以使表面污染物的分子结合被切断，从而分解污染物，清洗后洁净程度极高，接着性好；不会对材料的表面产生损伤；清洁处理所用时间短。

【技术特征摘要】
1.一种提高荫罩式等离子体显示屏邦定区域清洁程度的方法，它包括以下步骤：
（a）. 荫罩式等离子体显示屏邦定时，应用无尘布蘸取工业酒精对屏引线区进行粗洗，清除表面附着的有机污染物、灰尘，利用酒精易挥发、无污染的优点，可以提高清洁效率并保证超净环境的污染；
（b）.用离子风枪吹出的离子风，吹去附着在邦定区域表面的毛屑、灰尘，并去除屏邦定区域所带的静电，...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘巍，
申请(专利权)人：南京华显高科有限公司，
类型：发明
国别省市：