沉积装置制造方法及图纸

一种用于通过使用关于基板的掩膜执行沉积过程的沉积装置，所述沉积装置包括：室；在所述室中的支撑单元，所述支撑单元包括第一孔并且被配置为支撑所述基板；供应单元，被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料；和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元，所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜，并且将所述掩膜关于所述基板对齐。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种用于通过使用关于基板的掩膜执行沉积过程的沉积装置，所述沉积装置包括：室；在所述室中的支撑单元，所述支撑单元包括第一孔并且被配置为支撑所述基板；供应单元，被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料；和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元，所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜，并且将所述掩膜关于所述基板对齐。【专利说明】沉积装置相关申请的交叉引用本申请要求于2012年12月12日递交到韩国知识产权局的韩国专利申请N0.10-2012-0144673的权益，其公开内容通过引用全部并入本文。
示例实施例涉及沉积装置。更具体而言，示例实施例涉及一种提供有效沉积过程和具有改进特性的沉积膜的沉积装置。
技术介绍
半导体设备、显示设备和其它电子设备包括多个薄膜。各种方法可被用于形成多个薄膜，其中一种方法即为沉积方法。沉积方法使用例如一种或多种气体等各种原材料来形成薄膜。沉积方法包括化学气相沉积(CVD)方法、原子层沉积(ALD)方法等。在显示装置中，有机发光显示装置由于其宽视角、高对比性和快速反应速度而被期望成为下一代显示装置。传统的有机发光显示装置包括具有在彼此面对的第一电极和第二电极之间的有机发射层的中间层，还包括一个或多个具有不同特性的薄膜。在此情形下，使用沉积过程形成有机发光显示装置的薄膜。
技术实现思路
示例实施例提供一种可被用于有效地执行沉积过程以便容易地改进沉积膜的特性的沉积装置。根据示例实施例的方面，提供一种用于通过使用与基板有关的掩膜执行沉积过程的沉积装置，所述沉积装置包括:室；在所述室中的支撑单元，包括第一孔并且被配置为支撑所述基板；供应单元，被配置为向所述基板供应至少一种沉积原材料；和通过所述支撑单元的所述第一孔的能移动的对齐单元，所述对齐单元被配置为支撑所述掩膜，并且将所述掩膜与所述基板对齐。所述沉积装置可进一步包括对齐确认构件，所述对齐确认构件被配置为通过所述支撑单元中的第二孔确认所述基板和所述掩膜的对齐状态。所述对齐确认构件可被配置为检查所述基板上的对齐标记与所述掩膜上的对齐标记的对齐，以便确认所述基板和所述掩膜的对齐状态。所述支撑单元中的所述第二孔可比所述第一孔更靠近所述支撑单元的中心区域。所述对齐确认构件可比所述支撑单元更远离所述供应单元。所述支撑单元可位于所述对齐确认构件与所述供应单元之间。所述室可包括与所述第二孔重叠的透明窗，所述对齐确认构件被配置为通过所述透明窗确认所述基板和所述掩膜的对齐状态。所述对齐单元的横截面积可小于所述第一孔的尺寸，所述对齐单元在所述第一孔中能三维移动。所述对齐单元可被配置为支撑所述掩膜的同时在所述第一孔内竖直和水平地移动。所述支撑单元的上表面可为弯曲的。所述支撑单元的所述上表面的中心区域可相对于所述支撑单元的所述上表面的端部区域向上凸出。所述支撑单元的下表面根据所述支撑单元的所述上表面的曲度而被弯曲。所述支撑单元的下表面可为平的。所述沉积装置可进一步包括通过所述支撑单元中的第三孔的升降销，所述升降销被配置为支撑所述基板，并且在所述第三孔中竖直移动以便将所述基板布置在所述支撑单元上。所述第三孔可比所述第一孔更靠近所述支撑单元的中心区域。所述沉积装置可进一步包括被配置为支撑所述供应单元的基底板，所述基底板被定位为比所述供应单元更远离所述支撑单元。所述沉积装置可进一步包括被配置为向所述供应单元和所述支撑单元之间施加电压以便产生等离子体的电力单元。所述沉积装置可进一步包括被配置为产生等离子体并且将所述等离子体添入所述室中以便清洁所述室的内部的清洁单元。所述支撑单元可能够向上和向下竖直移动。所述室可包括至少一个出入口，所述基板或所述掩膜通过所述至少一个出入口被插入所述室中。【专利附图】【附图说明】通过参照附图详细描述示例性实施例，特征对于本领域普通技术人员来说将变得明显，在附图中:图1例示出根据实施例的沉积装置的示意图；图2例不出通过使用图1的沉积装置的对齐单兀对齐的掩I旲和基板的视图；图3例示出图1的部分R的放大视图；图4例示出图1的支撑单元的详细平面视图；图5例示出图4的支撑单元的一个第一孔的详细平面视图；图6A例示出图1的支撑单元的剖视图；图6B和图6C例示出图1的支撑单元的修改示例；图7例示出根据另一实施例的沉积装置的示意图；图8例示出图7的部分R的放大视图；图9例示出图7的支撑单元210的详细平面视图；图10例示出使用根据实施例的沉积装置制造的有机发光显示装置的示意性剖视图；以及图11例示出图10的部分F的放大视图。【具体实施方式】现在将在下文中参照附图更充分地描述示例实施例；然而，它们可以被实施为不同的形式，并且不应被解释为限于本文提出的实施例。而是，这些实施例被提供为使得本公开将完全和完整，并且将示例性实施方式充分传达给本领域技术人员。在附图中，层和区域的尺寸为了例示的清楚可能被夸大。还将理解的是，当一层或元件被提及为在另一层或基板“上”时，其能够直接在另一层或基板上，或者还可存在中间层。另外，还将理解的是，当一层被提及为在两层“之间”时，其能够是这两层之间的唯一的层，或者还可存在一个或多个中间层。全文中，同样的附图标记指代同样的元件。下文中,将参照示出本申请的示例性实施例的附图更充分地描述示例实施例。图1为根据实施例的沉积装置100的示意图。图2为通过使用沉积装置100的对齐单元140对齐的掩膜130和基板S。参照图1和图2，沉积装置100可包括室101、支撑单元110、供应单元120、对齐单元140和对齐确认构件150。室101可被连接到泵(未示出)以便在沉积过程期间控制气压，并且可容纳和保护基板S、支撑单元110和供应单元120。而且，室101可包括至少一个出入口 101a，通过该出入口 101a，基板S或掩膜130可移入或移出。用于沉积过程的基板S布置在支撑单元110上。支撑单元110使基板S能够在在基板S上执行的沉积过程期间不可移动或不可晃动。对此，支撑单元110可包括夹具(未示出)。而且，支撑单元110可包括一个或多个吸附孔(未示出)用于支撑单元110与基板S之间的吸附。支撑单元110包括第一孔111和第二孔112，这将在下面更详细地描述。对齐单元140被放置为穿过支撑单元110的第一孔111。例如线形构件的对齐单元140被形成为可在支撑掩膜130的下表面的同时移动。具体地，对齐单元140可沿Z轴移动，如图2中所示。而且，对齐单元140可沿X轴方向和与图1和图2中的X-Z平面垂直的方向移动(将在稍后详细描述)。对齐单元140布置在基板S的外侧，例如各个对齐单元140可与基板S的相邻边缘水平地分开，从而至少沿竖直方向不与基板S重叠。掩膜130具有与沉积图案(即要形成在基板S上的图案)对应的开口单元(未示出)。而且，掩膜130可为开放式掩膜。在沉积过程期间，掩膜130和基板S可被定位为彼此紧密靠近，如图2中所示。供应单元120布置为与基板S相对，从而沿朝向基板S的方向供应一种或多种原材料，即沉积材料，以便针对基板S推进沉积过程。也就是，供应单元120被放置在支撑单元110上方以便与基板S重叠。例如，供应单元120可为沿朝向基板S的方向供应一种或多种气体的喷头类型。另外，可在供应单元120和支撑单元11本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：许明洙，郑石源，李正浩，洪祥赫，李勇锡，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：实用新型
国别省市：