本发明专利技术公开了一种奥克托今颗粒表面粗糙度检测方法，该方法通过将奥克托今粗品颗粒精制，确定需要抽取的待测样品的数目，依据随机数表抽取待测样品，测量待测样品的表面粗糙度，计算轮廓算术平均偏差平均值与轮廓算术平均偏差示值误差，最后报告与表示。本发明专利技术采用光学法进行测试，实现了无损、非接触测试，量化奥克托今颗粒表面粗糙度值，以此分析和评价高品质奥克托今。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，该方法通过将奥克托今粗品颗粒精制，确定需要抽取的待测样品的数目，依据随机数表抽取待测样品，测量待测样品的表面粗糙度，计算轮廓算术平均偏差平均值与轮廓算术平均偏差示值误差，最后报告与表示。本专利技术采用光学法进行测试，实现了无损、非接触测试，量化奥克托今颗粒表面粗糙度值，以此分析和评价高品质奥克托今。【专利说明】
本专利技术属于炸药领域，涉及奥克托今，具体涉及。
技术介绍
对于表面粗糙度的检测和评价，最早人们是用标准样件或样块，通过经验(眼观或手摸)对表面粗糙度做出定性检测和评价。1929年，德国施马尔茨首先对表面微观不平整度的深度进行了测量。1936年美国艾尔特成功研制出第一台车间用的表面粗糙度轮廓仪。1940年英国泰勒-浩博森公司成功研制出表面粗糙度测量仪。之后，各国相继研制出多种测量表面粗糙度的仪器。目前产品化的表面粗糙度测量仪器中，一般可以划分为接触式与非接触式两种，如下图所示。其中接触式以触针轮廓仪为代表，非接触式测量以光学测量占主导。激光共聚焦显微镜是今年来发展起来的一种新型显微镜，与普通光学显微镜相比具有更高的分辨率和放大倍数，可以对待测样品进行分层扫描，实现样品的三维重建和测量分析。该术已在食品、生物医药等方面得到了广泛的应用，利用该技术研究了形态学、分子细胞生物学、神经学、药理学、遗传学、食品组织形态等。单质炸药晶体微表面形貌影响其在火炸药中的加工性能、微观力学性能，进而影响装药安全性。同时，单质炸药晶体微表面“锯齿”形状影响其与高分子材料的润湿性能和微界面作用，进而影响工艺流变性能。粗糙的微表面也是“热点”产生的原因之一。因此有效表征单质炸药晶体微表面为高品质单质炸药的评价、单质炸药晶体的包覆提供技术支持。迄今现有技术中未见单质炸药微表面粗糙度测试方法，特别是共聚焦显微镜用于单质炸药表面粗糙度测量的报道。
技术实现思路
针对现有技术存在的缺陷与不足，本专利技术的目的是提供，以解决现有分析方法无法解决的奥克托今黑索金表面粗糙度的表征问题。为了实现上述技术任务，本专利技术采用如下技术方案予以实现:，该方法包括以下步骤:步骤一，将奥克托今粗品颗粒精制，具体的精制过程如下所述:25°C时，在搅拌状态下，将奥克托今均分五次加入二甲基亚砜中，奥克托今与二甲基亚砜之间的质量比为55:100，待奥克托今完全溶解后，降温至-10°C，有晶体析出，过滤，干燥，得到精制后的奥克托今颗粒；步骤二，确定需要抽取的待测样品的数目，依据随机数表抽取待测样品:步骤三，测量待测样品的表面粗糙度:使用激光共聚焦显微镜测量每一个待测样品的表面粗糙度，进行测试时，首先采用LED冷光源白光进行照射，镜头放大倍数为5倍，调整视场后换至50倍放大镜头，激光共聚焦显微镜中的激光光源采用激光能量为I毫瓦，激光波长为405nm的半导体激光光源，三维图采集时选用1000层切片模式，图像分辨率选用4096X4096 ;依据如下公式计算得出待测样品的轮廓算术平均偏差:【权利要求】1.，其特征在于，该方法包括以下步骤: 步骤一，将奥克托今粗品颗粒精制，具体的精制过程如下所述: 25°C时，在搅拌状态下，将奥克托今均分五次加入二甲基亚砜中，奥克托今与二甲基亚砜之间的质量比为55:100，待奥克托今完全溶解后，降温至-10°C，有晶体析出，过滤，干燥，得到精制后的奥克托今颗粒； 步骤二，确定需要抽取的待测样品的数目，依据随机数表抽取待测样品: 步骤三，测量待测样品的表面粗糙度: 使用激光共聚焦显微镜测量每一个待测样品的表面粗糙度，进行测试时，首先采用LED冷光源白光进行照射，镜头放大倍数为5倍，调整视场后换至50倍放大镜头，激光共聚焦显微镜中的激光光源采用激光能量为I毫瓦，激光波长为405nm的半导体激光光源，三维图采集时选用1000层切片模式，图像分辨率选用4096X4096 ;依据如下公式计算得出待测样品的轮廓算术平均偏差: 2.如权利要求1所述的奥克托今颗粒表面粗糙度检测方法，其特征在于，步骤一所述的精制后的奥克托今颗粒的粒度范围是(0.5~5) X10_3m。【文档编号】G01B11/30GK103776398SQ201410013044【公开日】2014年5月7日 申请日期:2014年1月10日 优先权日:2014年1月10日 【专利技术者】张皋, 蒋忠亮, 陈智群, 徐敏, 周文静, 王克勇, 高朗华, 苏鹏飞, 任黎 申请人:西安近代化学研究所本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张皋，蒋忠亮，陈智群，徐敏，周文静，王克勇，高朗华，苏鹏飞，任黎，
申请(专利权)人：西安近代化学研究所，
类型：发明
国别省市：
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