用于制造在触控面板中使用的透明主体的方法和系统技术方案

本发明专利技术提供了一种用于制造在触控面板中使用的透明主体的工艺。所述工艺包括：在基板上沉积第一透明层堆叠，所述第一透明层堆叠包括第一含硅电介质薄膜、第二含硅电介质薄膜和第三含硅电介质薄膜。所述第一和第三含硅电介质薄膜具有低折射率，而所述第二含硅电介质薄膜具有高折射率。所述工艺进一步包括：沉积透明导电薄膜，使得所述第一透明层堆叠和所述透明导电薄膜按这种次序设置在基板上。通过溅射从靶沉积所述第一含硅电介质薄膜、所述第二含硅电介质薄膜、所述第三含硅电介质薄膜或者所述透明导电薄膜中的至少一个。除此之外，还提供了一种用于制造在触控面板中使用的透明主体的沉积装置(300)和一种在触控面板中使用的透明主体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供了一种用于制造在触控面板中使用的透明主体的工艺。所述工艺包括：在基板上沉积第一透明层堆叠，所述第一透明层堆叠包括第一含硅电介质薄膜、第二含硅电介质薄膜和第三含硅电介质薄膜。所述第一和第三含硅电介质薄膜具有低折射率，而所述第二含硅电介质薄膜具有高折射率。所述工艺进一步包括：沉积透明导电薄膜，使得所述第一透明层堆叠和所述透明导电薄膜按这种次序设置在基板上。通过溅射从靶沉积所述第一含硅电介质薄膜、所述第二含硅电介质薄膜、所述第三含硅电介质薄膜或者所述透明导电薄膜中的至少一个。除此之外，还提供了一种用于制造在触控面板中使用的透明主体的沉积装置(300)和一种在触控面板中使用的透明主体。【专利说明】用于制造在触控面板中使用的透明主体的方法和系统
本公开案的实施方式涉及用于制造在触控面板中使用的透明主体的工艺和系统，以及根据这些工艺制造的透明主体。
技术介绍
触控面板是特定种类的电子可视显示器，所述触控面板能够检测和定位在显示区中的触摸。一般地，触控面板包括透明主体，所述透明主体设置在屏幕上并且配置用于感测触摸。这种主体是大体上透明的，以便由屏幕发出的可见光谱光可以穿过主体透射。至少一些已知的触控面板包括透明主体，所述透明主体由阻挡层和透明导体按这种次序形成在基板上而构成。在这种面板的显示区上的触摸一般会导致在透明主体的区域中可测量的电容变化。可以使用不同的技术来测量所述电容变化，以便确定所述触摸的位置。对供触控面板使用的透明主体有一些特别的要求。具体地，一个关键要求是透明主体稳固到足以承受在屏幕上的多次触摸和苛刻条件，以便触摸屏的可靠性不会随着时间的推移受到损害。然而，由于例如形成所述透明主体的各层的厚度、组成和结构，被包括在触摸屏中的被认为是可靠的至少一些已知的透明主体对穿过触摸屏的光的正确透射有干扰。此外，制造这种具有高品质(例如，具有均匀的和无缺陷的阻挡层)的稳固透明主体成为挑战。因此，希望获得用于形成在触控面板中使用的高品质透明主体的工艺和装置，以使得所述主体稳固地形成在基板上，且不损害可见光谱光的正确透射。此外，用于触控面板应用的常见制造工艺可以是溅射工艺，其中使用辊对辊式溅射卷材涂布机将触控面板涂层沉积在塑胶膜上。市场上有若干类型的触控面板涂层出售。通常，当从一个触控面板工艺变化到下一个工艺时，进行一个或多个溅射靶或阴极的变更。从而，机器被排空和打开。去除并且用不同的靶材料替代所述一个或多个溅射靶。这些程序是费时的并且可能会造成故障(例如，漏水)。因此，进一步希望改良操作员对触控面板制造系统的拥有成本并提供附加的价值。
技术实现思路
根据一个实施方式，提供了一种用于制造在触控面板中使用的透明主体的工艺。所述工艺包括:在基板上沉积第一透明层堆叠，所述第一透明层堆叠包括第一含硅电介质薄膜、第二含硅电介质薄膜和第三含硅电介质薄膜。所述第一和第三含硅电介质薄膜具有低折射率，而所述第二含硅电介质薄膜具有高折射率。所述工艺进一步包括:沉积透明导电薄膜，以使得所述第一透明层堆叠和所述透明导电薄膜按这种次序设置在基板上。使用溅射从靶沉积所述第一含硅电介质薄膜、所述第二含硅电介质薄膜、所述第三含硅电介质薄膜或者所述透明导电薄膜中的至少一个。根据另一实施方式，提供了一种用于制造在触控面板中使用的透明主体的沉积装置。所述装置包括:第一沉积组件，所述第一沉积组件配置用于在基板上沉积第一透明层堆叠，所述第一透明层堆叠包括第一含硅电介质薄膜、第二含硅电介质薄膜和第三含硅电介质薄膜，其中所述第一和第三含硅电介质薄膜具有低折射率，而所述第二含硅电介质薄膜具有高折射率；以及第二沉积组件，所述第二沉积组件配置用于沉积透明导电薄膜。所述第一沉积组件和所述第二沉积组件设置成使得所述第一透明层堆叠和所述透明导电薄膜按这种次序设置在基板上。所述第一沉积组件或所述第二沉积组件中的至少一个包括溅射系统，所述溅射系统可操作地耦接到靶，例如可旋转的靶。所述溅射系统配置成使用靶的溅射来沉积所述第一含硅电介质薄膜、所述第二含硅电介质薄膜、所述第三含硅电介质薄膜，或者所述透明导电薄膜中的至少一个。意外地，与用于在触控面板中使用的至少一些已知的透明主体相比，根据本公开案的各实施方式沉积的各电介质薄膜的组合具有附加的电介质薄膜，所述薄膜的组合具有折射率的特性组合，并且其中使用靶的溅射来沉积至少一个薄膜，所述根据本公开案的各实施方式沉积的各电介质薄膜的组合促进了高品质透明主体的制造，所述高品质的透明主体不仅会得到光的正确透射，而且还会得到随时间推移的稳固的性能。此外，提供用于含硅电介质薄膜的各含硅溅射靶的组合允许用于各种层堆叠，包括不同类型的堆叠:包括三个含硅电介质层的堆叠、包括两个含硅电介质层的堆叠，或者包括一个含硅层的堆叠。因此，用于触控面板前驱物的卷材涂布机的操作员可以在不同类型的触控面板之间切换。这个操作可以例如在柔性基板(卷材)的不同辊之间实行，或者甚至在柔性基板的一个辊的不同部分上实行。由此，减少了在不同工艺之间变换的时间，并且从而可以提供拥有成本和/或附加价值(例如，灵活性)。本专利技术的其他方面、优点和特征根据从属权利要求、描述以及附图是显而易见的。实施方式还关于用于执行所公开工艺的装置，并且包括用于实施所描述的工艺步骤的装置零件。此外，实施方式还关于操作所描述的装置或制造所描述的装置的方法。所述方法可包括用以实施所述装置的功能或制造所述装置的零件的方法步骤。所述方法步骤可经由硬件元件、固件、软件、由适当软件编程的计算机，其任意组合或以任何其他方式来执行。【专利附图】【附图说明】将在说明书的剩余部分(包括对附图的参照)中向本领域一般技术人员更具体地阐述全面和可实现的公开内容，所述公开内容包括所述公开的最佳模式，在附图中:图1是根据本文的实施方式在触控面板中使用的示例性透明主体的示意图；图2是用于制造根据本文的实施方式在触控面板中使用的透明主体的示例性沉积装置的不意图；图3是用于制造根据本文的实施方式在触控面板中使用的透明主体的另一示例性沉积装置的示意图；图4是说明在触控面板中使用的已知的透明主体的反射率的曲线图；图5是说明根据本文的实施方式在触控面板中使用的示例性透明主体的反射率的曲线图；图6是对在图4和图5中显示的反射率进行直接比较的曲线图；图7显示说明具有图4所示的已知的透明主体结构的透明主体和具有图5所示的示例性透明主体结构的透明主体的b*值的曲线图；图8显示说明具有图5所示的示例性透明主体结构的透明主体的b*值的曲线图；图9显示表明根据本文的各实施方式制造的透明主体的稳固性能的不同曲线图；图10是说明用于制造在触控面板中适当使用的透明主体的示例性流程的流程图；以及图11是根据本文的实施方式的用于制造在触控面板中使用的透明主体的另一示例性沉积装置的示意图。【具体实施方式】现将详细提及各种实施方式，所述实施方式的一个或多个实例图示于图中。各实例是以解释说明的方式提供，且其并非旨在作为本专利技术的限制。预计一个实施方式的要素可在不进一步详述的情况下在其他实施方式中有利地利用。本文描述的实施方式包括一种用于制造在触控面板中使用的透明主体的工艺。具体地，本公开案的实施方式包括透明主体，所述透明主体包括第一透明堆叠本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造在触控面板中使用的透明主体(10)的工艺，所述工艺包括：在基板(14)上沉积第一透明层堆叠(12)，所述第一透明层堆叠(12)包括第一含硅电介质薄膜(16)、第二含硅电介质薄膜(18)以及第三含硅电介质薄膜(20)，所述第一和第三含硅电介质薄膜具有低折射率，而所述第二含硅电介质薄膜具有高折射率；以及沉积透明导电薄膜(22)，使得所述第一透明层堆叠(12)和所述透明导电薄膜(22)以这种次序被设置在所述基板(14)上；其中通过溅射从靶（122、124、126、128、322、324、326、328）沉积所述第一含硅电介质薄膜(16)、所述第二含硅电介质薄膜(18)、所述第三含硅电介质薄膜(20)或者所述透明导电薄膜(22)中的至少一个。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：HG·洛茨，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US