一类哌嗪修饰的酞菁配合物及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一类哌嗪修饰的酞菁配合物及其制备方法和应用，在金属酞菁大环周边引入哌嗪分子，以增加酞菁的两亲性、生物相容性和靶向性。哌嗪基团中含有两个N原子，当所合成的酞菁配合物进入组织后，如果是正常组织，在光照条件下，哌嗪基团N原子上的孤对电子能淬灭酞菁的单重激发态，从而无单线态氧产生；肿瘤组织中显弱酸性，N被质子化，因而不能淬灭酞菁的单重激发态，这样就能产生单线态氧，杀死肿瘤细胞。基于以上理论，哌嗪基团的引入将能提高酞菁光动力治疗的选择性，减少其对正常组织的损伤。哌嗪修饰酞菁配合物配合物结构单一，不存在异构体，产品容易提纯，成本低，有利于工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一类哌嗪修饰的酞菁配合物，其特征在于：所述的酞菁配合物结构式如下所示：（Ⅰ），其中R为(CH2)nCH3或(CH2CH2O)nCH3，n=1‑3。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘见永，薛金萍，袁晓，
申请(专利权)人：福州大学，
类型：发明
国别省市：福建;35