枣庄维信诺电子科技有限公司专利技术

枣庄维信诺电子科技有限公司共有18项专利

  • 本实用新型提供的一种清洁装置,包括:机架;第一毛刷组件,设置在所述机架上,包括第一毛刷轴和设置在所述第一毛刷轴上的刷毛;第二毛刷组件,设置在所述第一毛刷组件的下侧,包括第二毛刷轴和设置在所述第二毛刷轴上的刷毛;调节结构,与所述第一毛刷组...
  • 一种送料装置及一种贴片设备,其中送料装置包括:送料机构,包括物料传送单元和驱动单元,所述传送单元具有入料口和出料口,所述驱动单元驱动所述传送单元将物料由入料口向出料口输送;检测机构,包括第一检测器和第二检测器,所述第一检测器检测并获取所...
  • 一种测试治具,其包括:基座,所述基座上设有载板;所述载板上设有分别容纳转接板和待测板件的第一容置槽和第二容置槽;所述第一容置槽和所述第二容置槽之间设有允许其内的转接板和待测板件接通的连通平面,所述连通平面使所述转接板的输入端和所述待测板...
  • 一种电镀挂具,其包括:至少一对挂具架,所述挂具架上设有若干固定单元,所述固定单元夹持固定待镀板件;所述固定单元包括导电定位凸起以及夹持件,所述凸起垂直凸出于所述挂具架表面设置,所述板件穿套挂设于所述凸起上,所述夹持件允许所述凸起插入并将...
  • 一种真空镀膜设备,其包括:真空镀膜腔室,包括腔室门和对所述基板进行真空镀膜的至少一个真空制程腔,所述真空制程腔设于所述腔室门内;大气传输腔室,包括至少一个对镀膜后的所述基板进行散热的大气腔;以及移动装置,将所述基板移动至所述真空镀膜腔室...
  • 本实用新型涉及基板清洗技术领域,公开的一种清洗装置包括用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构,与所述输送机构相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元、药液清洗单元、二流体清洗单元、纯水清洗单元以及干燥单元。由此,该清洗装置通过多...
  • 本实用新型涉及电子元器件制造领域,公开的一种承载装置包括承载基板,所述承载基板上开设有若干容置槽,至少一个所述容置槽的内壁设置有多个环形台阶,沿靠近所述容置槽开口方向,环形台阶的口径逐渐增大,所述容置槽的内壁面上设置有保护层。本实用新型...
  • 本实用新型涉及显示技术领域,提供一种研磨装置及研磨系统,其中研磨装置,包括:研磨组件;配液组件,包括配液主管以及与配液主管连接的若干配液支管,其中若干配液支管与研磨组件固定连接并在研磨组件上均匀分布。通过固定连接的研磨组件与配液组件,即...
  • 一种基板的抛光装置,其包括:基座,所述基座支承抛光部,所述基座上设置有放置所述基板的抛光垫;抛光部,其包括与所述基板接触的抛光板,所述抛光板设置于所述基座上且位于所述抛光垫的上方;驱动部,所述驱动部固定在所述基座上,所述驱动部驱动所述抛...
  • 清洗装置
    本发明涉及基板清洗技术领域,公开的一种清洗装置包括用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构,与所述输送机构相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元、药液清洗单元、二流体清洗单元、纯水清洗单元以及干燥单元。由此,该清洗装置通过多个清...
  • 一种轴
    本实用新型涉及机械技术领域,提供一种轴,其外壁具有与轴线平行的至少一个平面。通过在轴外壁设置至少一个平面,使得在安装螺丝过程中,螺丝与轴表面的接触面增大,固定可靠且牢固;此外,由于螺丝的前端对应面低于轴表面,消除了因轴损伤导致拆装困难的...
  • 一种磁控旋转靶磁场调节装置及应用其的磁控旋转靶装置
    本实用新型提供一种磁控旋转靶磁场调节装置,通过设置在磁件固定条两端部的第一调节组件,用于将磁件固定条连接至磁轭并调节磁件固定条与所述磁轭的相对位置;以及,夹设在所述磁轭和水管之间的第二调节组件,用于调节所述水管与所述磁轭的相对位置。通过...
  • 滚刷及应用其的清洗装置
    本实用新型提供的滚刷,包括驱动轴,具有中空腔体;刷体,包覆在所述驱动轴的外壁上;配水组件,开设在所述驱动轴外壁上,并与所述中空腔体连通;所述配水组件设置在所述刷体内部,且远离所述驱动轴的一端与所述刷体外壁的间距为所述刷体厚度的1/10~...
  • 一种清洁装置
    本实用新型涉及基板清洁领域,提供的清洁装置,包括:传动组件,包括在第一方向上并置的若干传动轴,用于传输待清洗件;喷淋组件,至少为两个,相对设置在所述传动组件的上部和下部;风刀组件,至少为两个,相对设置在所述传动组件的上部和下部;支撑所述...
  • 一种基板的抛光装置
    一种基板的抛光装置,其包括:基座,所述基座支承抛光部,所述基座上设置有放置所述基板的抛光垫;抛光部,其包括与所述基板接触的抛光板,所述抛光板设置于所述基座上且位于所述抛光垫的上方;驱动部,所述驱动部固定在所述基座上,所述驱动部驱动所述抛...
  • 一种适用于手动装卸基片的存储系统
    本实用新型公开一种适用于手动装卸基片的存储系统,包括底座、第一支架、第二支架、导向结构以及卡槽。第一支架和第二支架相对设置在底座的两侧壁上;至少一套导向结构设置在第一支架和所述第二支架上,从第一支架或第二支架的一端水平延伸至另一端;至少...
  • 一种玻璃基片的清洗设备
    本实用新型公开一种玻璃基片的清洗设备,包括箱体、盖板、两个喷淋结构以及上盖,上盖可拆卸地设置在箱体的顶部开口上;上盖的边缘成型有朝向内腔凹陷的引流部,引流部的底部位于清洗腔体的正上方,用于引导凝结在引流部内壁面上的溶液回落在清洗腔体内。...
  • 一种磁控溅射设备靶材
    一种磁控溅射设备靶材,其包括:靶材,所述靶材包括一溅射面和一安装面;背板,与所述靶材对应地设置,其包括一上表面和一下表面,所述上表面与所述安装面配合安装;所述靶材的所述安装面上设置有凸楞,所述背板的所述上表面上设置有凹槽,所述凹槽与所述...
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