本发明涉及一种被配置为集成在电解槽中的电解池框架（100）。该框架形成具有内轮廓（InnCont）的闭合形状，该内轮廓限定在延伸平面（ExtP1）中延伸的开口（Op）。该内轮廓具有至少两个阶梯（St1、St2、St3、St4、St5、S...