本发明涉及一种用于将流体受控地引入真空处理室的气体入口阀（1），其中，气体入口阀（1）包括：气体施加单元（2），其具有气体入口（21）、气体出口（22）和内部容积（23）；调节元件（31），其伸入到气体施加单元（2）中并且具有布置在内部...

本发明涉及一种用于控制气动驱动定位装置的学习，所述方法用于为控制真空系统提供控制参数，真空系统包括至少第一气动定位装置，其在可由真空工艺腔室提供的工艺气氛区域中移动和定位作用元件，并包括保持作用元件的第一安装件和第一气动致动器。该系统还...

一种阀，尤其是真空阀，该阀具有用于关闭开口（3）的关闭元件（2）和用于在开启位置和关闭位置之间移动关闭元件（2）的阀驱动器，关闭元件在该开启位置开启开口（3），关闭元件（2）在该关闭位置关闭开口（3），其中，该阀驱动器具有至少两个能枢转...

本发明涉及一种同步销钉提升装置，同步销钉提升系统包括至少一个第一销钉提升装置，其包括第一气动致动器，具有第一气动缸和第一移动件。该系统包括第一控制阀，控制第一气动致动器的加压和/或流体流，以提供第一移动件的移动；第一流体传感器，测量第一...

本发明涉及一种用于阀的阀闭合件的密封件(10)，其具有带有紧固体(22)的紧固区域(21)和用于为该阀的阀开口提供密封的密封区域(11)，紧固区域(21)和该密封区域(11)相互连接。该密封件(10)在密封区域(11)中具有密封唇(12...

本发明涉及一种用于将流体受控地送入真空工艺腔室的气体入口阀(1)，其中，该气体入口阀(1)包括：具有内部容积(23)的气体流动单元(2)，其中，气体流动单元在该内部容积(23)中具有密封面(24)；伸入该内部容积(23)中并具有阀盘(3...

用于计量系统(1)的控制和处理单元(40)，计量系统(1)包括至少第一传感器(10)，第一传感器(10)包括膜(12)、膜(12)的悬架(13)、底部晶片(21)以及形成在膜(12)与底部晶片(21)的至少一部分之间的腔体(30)。计量...

一种加热装置(1)，其具有加热板(2)，用于在真空腔室(4)中加热工件(3)、特别是晶圆，其中，所述加热板(2)具有承载层(5)，所述承载层具有上侧面(6)，所述工件(3)为了被加热能够布置在所述上侧面上或上方，并且所述加热装置(1)具...

本发明涉及真空阀(1)，具有阀座(3,3b)、关闭组件(10)和连接到关闭组件(10)的驱动单元(7)，其中，关闭组件(10)具有带有第一连接侧的载体元件(20)和带有第二连接侧的关闭板(30,40)，并且第一和第二连接侧被设计成将载体...

本发明涉及一种用于控制流体进入真空处理腔室的进气阀，其中进气阀(1)包括：气体通道单元(2)，其中该气体通道单元在内部容积(23)中具有密封表面(24)；具有调节单元(31)的调节装置(3)，其中调节单元(31)伸入内部容积(23)中并...

一种阀（1），具有阀杆和布置在所述阀杆上的用于关闭阀开口（4）的关闭构件（3），其中，所述关闭构件（3）能够在关闭位置与最大打开位置之间借助所述阀杆仅仅直线地沿着平行于所述阀杆的纵向延伸部的方向移动，并且所述阀（1）具有阀驱动器（7），...

一种用于确定调控阀的调控装置的校正值的方法，其中，所述调控阀对流经腔室的流体流进行调控，并且，由所述调控装置将所述调控阀的封闭构件通过所述调控阀的调节驱动装置相对于用于所述流体流的流动开口布置在彼此不同的位置，其中，设置特别是所述调控阀...

一种阀(1)，特别是真空阀，其用于计量通过通流口(2)的体积流量，其中，所述阀(1)阀盘(3)具有用于在阀(1)的关闭位置中封闭通流口(2)和至少两个分别纵向延伸的阀杆(4，5)，其中，所述阀杆(4，5)在彼此隔开距离的部位处固定在所述...

一种阀(1)、特别是真空阀，其用于计量通过通流口(2)的体积流量，其中，所述阀(1)具有用于在所述阀(1)的关闭位置中封闭通流口(2)的阀盘(3)和至少两个分别纵向延伸的阀杆(4，5)，其中，所述阀杆(4，5)在彼此隔开距离的部位处固定...

本发明涉及一种泵和用于真空过程的通风系统，用于处理物体的真空系统至少包括可抽空的真空体积、第一真空阀、第二真空阀、以真空体积内的实际压力可用压力传感器来确定的方式连接至真空体积、连接至第一真空阀、第二真空阀和压力传感器的调节和控制单元。...

一种用于气密中断流路的真空阀(10)，具有：阀壳体(11)，它具有在第一轴线(12')方向上的第一端口(12)和在第二轴线(13')方向上的第二端口(13)和阀座(16)。真空阀还具有阀板(17)、驱动单元(30)和用于控制阀板(17)...

提供了一种真空阀系统(10)，包括阀座机构，其具有阀开口、围绕阀开口的第一阀座和围绕阀开口的第二阀座，用于基本上气密关闭阀开口的且具有第一密封面和第二密封面的关闭部件(20)和用于提供关闭部件(20)相对于阀座机构的运动以致关闭部件(2...

摆阀(10)具有带有第一密封面的阀座和带有对应于第一密封面的第二密封面的阀关闭件(14)，其中，阀关闭件借助驱动单元(19)可绕枢转轴线(R)枢转地安装。摆阀(10)具有校准面和用于确定位置传感器与校准面之间距离的位置传感器，其中，位置...

一种阀(1)、特别是真空阀，其具有阀壳体(2)和用于封闭阀开口(4)的封闭构件(3)，并且所述阀具有用于使所述封闭构件(3)在关闭位置和打开位置之间来回移动的阀驱动器(5)，在所述关闭位置中，所述封闭构件(3)封闭所述阀开口(4)，在所...

真空处理系统(1)包括真空室(10)、可控流体施加装置(30)以及控制和/或调节单元(40)，可控流体施加装置(30)连接到真空室(10)并且被配置为以受控的方式提供流体到真空室(10)中的流入，控制和/或调节单元(40)用于至少控制可...