三星电子株式会社专利技术

三星电子株式会社共有56362项专利

  • 含有具有热固化性能的环氧基团和具有光固化性能的查耳酮基团的化合物,可以用下列分子式表示,其中n是1到10000的整数,R↓[1]、R↓[2]、R↓[3]、R↓[4]、R↓[5]、R↓[6]、R↓[7]和R↓[8]选自氢原子、烷基、烷氧基...
  • 本发明提供了一种可减少漏光现象且提高画质的滤色器基片、用简单工序制造该滤色器基片的方法及液晶显示器。该滤色器基片包括基片、滤色器、遮光部件、及多个粒状遮光隔板。该基片包括用于遮挡光的遮光区域。将滤色器设置在基片上。将遮光部件设置在基片上...
  • 在一种利用对一个衬底分区曝光制造液晶显示器的方法中,在相邻拍摄区之间的边界处设置一个重叠区,并且分别以拍摄区的面积逐渐减小和增大的方式对边界左侧和右侧拍摄区曝光,从而减小两个拍摄区之间由于压合误差所致的亮度差。例如,当沿压合区的横向向右...
  • 图案形成材料体,包括:    热敏材料层,在目标衬底上形成;    第一光/热转换层,在热敏材料层和目标衬底之间形成;和    第二光/热转换层,在热敏材料层与第一光/热转换层相对的表面上形成,    其中,热敏材料层置于第一和第二光/...
  • 形成集成电路器件的方法可以包括在集成电路器件层上形成抗蚀剂图形,通过抗蚀剂图形的开口露出部分层。在抗蚀剂图形上可以形成有机-无机混合硅氧烷网状薄膜。然后通过抗蚀剂图形和有机-无机混合硅氧烷网状薄膜露出的部分层可以被除去。也论述了相关结构。
  • 掩模图形包括抗蚀剂图形和抗蚀剂图形的表面上的凝胶层,凝胶层具有包括质子供体聚合物和质子受体聚合物之间的氢键的结点。还提供形成掩模图形的方法和使用该掩模图形作为刻蚀掩模制造半导体器件的方法。
  • 本发明提供了一种光刻胶剥离剂,包括:约5wt%至20wt%的醇胺、约40wt%至70wt%的乙二醇醚、约20wt%至40wt%的N-甲基吡咯烷酮、以及约0.2wt%至6wt%的螯合剂。
  • 用于测量位移的干涉仪系统包括位移干涉仪。该干涉仪包括响应测量光束的位移变换器。配置该位移变换器,以将其在垂直于测量光束的方向上的移动变换为位移变换器的反射面与测量光束之间的光程长度的变化。位移变换器可以包括透射光栅和位移反射镜或者反射光栅。
  • 一种制造半导体器件的方法,包括,在衬底上形成材料层,在材料层上形成掩模层,以及将氮离子注入掩模层中,以减小其光吸收。在材料层和衬底之间可以形成对准键,以及可以通过注入的掩模层光学地确定对准键的位置。注入的掩模层可以被构图,以限定掩模图形...
  • 在供制造半导体器件中使用的光刻胶分配设备中,通过使用分配泵强制地从瓶子发出光刻胶以及使它通过供应管线和过滤器,获得过滤操作,以及通过喷嘴将过滤的光刻胶喷射到晶片上;气泡去除单元装备有供应管线,在分配泵之前。在光刻胶的流动中产生的大气泡和...
  • 一种具有广视角、良好均匀性及高分辨率的凸镜式透镜板及其制造方法。该制造凸镜式透镜板的方法包括下列步骤,即准备一在一侧上具有若干个漫射来自至少一光源的入射光的入射侧凸镜式透镜的凸镜式透镜板的主体,将光阻层叠压在该凸镜式透镜板的另一侧,对该...
  • 本发明提供一种电磁聚焦装置和使用该电磁聚焦装置的电子束光刻系统,其能够通过移动极片的中心部分调节电磁场的均匀性。该电磁聚焦装置控制从电子束光刻系统的电子束发射器产生的电子束的路径。在该电磁聚焦装置中,磁场生成器形成真空室中的磁场,该真空...
  • 提供一种反射光掩模,允许在光刻中将用于吸收EUV射线的吸收剂图形的设计形状正确转移到硅晶片,所述光掩模包括:衬底,由反射EUV射线的材料构成、形成在衬底上的反射层,以及通过使用离子注入注入吸收EUV射线的吸收剂的离子形成在反射层上的具有...
  • 一种包括含有金刚烷基烷基乙烯醚共聚物的光敏聚合物,及含有该光敏聚合物的光阻剂组合物。例如包括具有如下通式共聚物的光敏聚合物,其中x为1~4的整数,R↓[1]为氢原子或甲基,R↓[2]为酸不稳定的C↓[4]~C↓[20]的烃基,p/(p+...
  • 用于光刻的掩模及其制造方法。掩模包括衬底,由能反射电磁辐射的材料在衬底上形成的反射层,和以希望的图案形成的吸收图案以使得形成对于电磁辐射的吸收区和电磁射线通过的窗口区,其中吸收图案包括至少一个邻近窗口并且相对于反射层倾斜的侧面。该方法可...
  • 一种光阻剂,包含碱溶性树脂、光敏剂和溶剂。碱溶性树脂包含由间甲酚合成的第一类酚醛清漆树脂,第一类酚醛清漆树脂的平均分子量为大约8000至25000并且其多分散指数为四或更小。第一类酚醛清漆树脂在碱溶性树脂中的含量为大约5wt.%至30w...
  • 一种光掩模及其方法。在示例方法中,该光掩模可以通过以下步骤制造:在表面上形成氧化物层;构图所述氧化物层以形成氧化物图案,所述氧化物图案包括多个氧化物图案主体和多个氧化物窗口;用吸收剂填充所述多个氧化物窗口以形成吸收剂图案;以及减少所述多...
  • 本发明公开了一种液晶显示装置的配向膜的制造方法和在其中使用的蚀刻设备。所述方法能够在准确的位置简单地构图配向膜。所述方法包括在基板上形成配向膜,所述基板在对应于用于将电压施加到公共电极的传输电极的位置具有电极焊盘;和在不使用掩模图案的情...
  • 一种黑色基体组合物,其包括约40重量份颜料分散体,约0.1-约1.0重量份光引发剂,约5-约20重量份可光聚合单体,约5-约20重量份粘结树脂,其包含含氟的丙烯酰基类共聚物且具有与该丙烯酰基类共聚物的侧链联结的羟基;约0.1-约0.5重...
  • 本发明提供了一种制作具有显示区和非显示区的液晶显示器的方法,该方法包括:在绝缘基底上形成具有漏电极的薄膜晶体管(TFT);在TFT上顺序地形成无机层和有机绝缘层;通过图案化有机绝缘层来形成有机绝缘层图案,有机绝缘层包括第一有机层孔和第二...