本发明涉及一种用于在基底(100)上沉积材料层的装置(1)，采用物理气相沉积和化学气相沉积，尤其是原子层沉积。该装置(1)包括在沉积材料层时用于保持基底(100)的基底保持件(2)、化学气相沉积腔(3)，尤其是原子层沉积腔、以及物理气相...