本发明尤其针对一种原子层沉积(ALD)设备(1)，包括：整体基座(2)，具有带有凸缘边沿(22、23)的本体(21)；及双盖系统(3)，包括第一盖件(31)及第二盖件(32)，第二盖件相对于第一盖件至少部分地凹陷，以在其之间限定中间空间...