本发明属于材料表面处理设备技术领域，且公开了一种pvd镀膜工艺用等离子体清洗组件及其清洗方法，包括底座，底座的顶部固定安装有箱体，箱体的顶部固定安装有控制器，箱体的顶部内壁上固定安装有等离子体喷头，所述底座的内壁上滑动安装有移动板，所述...