本发明涉及一种用于对材料(2)、特别是固体进行热处理的设备(1)，其包括处理室(5)和至少一个用于提供等离子体的装置(6)，其中处理室(5)具有用于气态流体的入口(56)和出口(57)，且其中处理室(5)的出口(57)与至少一个热交换器...

本发明涉及一种用于提供等离子体的装置(6)，其包括至少一个等离子体产生件(8)，该等离子体产生件带有用于气态流体的入口(46)和出口(47)，其中，在等离子体产生件(8)中设有第一流动通道(11)，必要时设有与其同心设置的第二流动通道(...

本发明涉及用于提供等离子的装置(6)，包括至少一个等离子产生件(8)，在其中或其上设有至少一个电气感应线圈(10)和/或磁控管，且在其中此外还设有第一流动通道(11)和与之同心设置的第二流动通道(12)，其中第二流动通道(12)至少逐段...