本技术提供一种可调节的花洒滑座，包括滑座本体、设置于所述滑座本体一侧的花洒座，还包括设置于所述滑座本体的一侧的第一吸附体、设置于所述花洒座上靠近滑座本体那端，且与第一吸附体磁性吸附的第二吸附体，第一吸附体与第二吸附体用于在花洒座受周向预...

本技术提供一种便于清理出水孔的花洒，包括进水壳体、设置于所述进水壳体一端的出水壳体，还包括开设于所述出水壳体上的出水腔体、可升降设置于所述出水壳体上位于出水腔体内的出水板、设置于所述出水壳体上位于出水腔体内的限位件、设置于所述限位件与所...