本申请公开了一种用于涂覆基板(S)的等离子体喷涂装置(1)，包括：至少一个工作腔室(3)，该工作腔室包括至少一个等离子体炬(21)和至少一个用于要涂覆基板(S)的基板支承件(26)，惰性气体或惰性气体混合物容纳在该工作腔室中，其压力接近...