本发明提供一种射频溅射装置，此装置包括真空腔室、第一电极、对应电极及射频产生器。第一电极具有第一表面，其配置于真空腔室内，对应电极具有表面，其配置于真空腔室内，射频产生器是用以施加ＲＦ电场，其穿过第一电极与对应电极，以开始产生等离子于第...