本公开提供了一种用于处理流体样品的纳米孔设备，该纳米孔设备包括：衬底；顶部腔体，其中顶部腔体包含第一电介质；底部腔体，其中底部腔体包含第二电介质；第一电介质膜，其由衬底支撑并将顶部腔体和底部腔体分开；被定位成靠近第一电介质膜的第一组电极...