本发明公开了一种半导体级石英坩埚低损伤清洗方法、系统、清洗液，本发明涉及半导体材料加工技术领域，包括：配置粗洗酸液，粗洗酸液由质量百分比为3.0‑3.8%的HF、0.15‑0.25%的硫脲和余下的水组成；粗洗处理：将石英坩埚浸泡于粗洗酸...

本技术公开了一种石英坩埚成型棒，包括第一成型棒、第二成型棒、调节装置、棒尖；调节装置的底部设置有斜面；第一成型棒的直臂的半径小于石英坩埚模具上口位置的半径，第二成型棒的直臂的半径等于石英坩埚模具下部的半径减去对应料层厚度。本技术通过两段...

本技术公开了一种石英坩埚成型装置，包括小车、第一主轴、第一电机、第二主轴、第二电机、立轴、主机架、电极控制机构、电极、模具、第一水冷套、第二水冷套、水冷盖；本技术通过在第一水冷套外部设置第二水冷套，并在第二水冷套顶部设置水冷盖，在第一水...