本技术公开了一种气相沉积设备，包括反应系统，所述反应系统上设置有控流机构，所述控流机构包括控制套、活动仓、控制块、通孔、转动套、配合套、螺杆和推套，控制套安装在反省系统进入端，活动槽设置在控制套内，控制块设置有多组滑动在活动仓内，通孔设...

本技术公开了一种半导体单晶炉，包括炉体，所述炉体上设有封盖，所述封盖上设置有泄压机构，所述泄压机构包括泄压套、泄压孔、中心杆、密封套、滑孔、封杆、漏孔、施压板、密封环、固定套、限位套和施压簧，泄压套安装在封盖上，泄压孔设置有多组分布在泄...