本技术公开了一种CMP后清洗设备，包括机架本体以及安装在所述机架本体上的清洗部和搬运部，还包括喷洗部；所述机架本体包括至少两组空仓，其中一组空仓为清洗仓，另一组为喷洗仓，所述清洗仓内设有清洗液；所述清洗部包括清洗框以及设置在所述清洗框内...