本发明公开了一种基于HiPIMS多靶高速沉积高性能涂层的制备方法及其一种切削工具。所述制备方法包括基体预处理、基体表面清洗及多靶共溅沉积等步骤。在多靶共溅沉积步骤中，启动多个同种类靶材，于反应气体和惰性气体的混合气氛中，采用高功率脉冲磁...

本技术涉及模具技术领域，具体涉及一种可拆卸冲压模具，包括：上模具、下模具和中模具，上模具和下模具的近端形成成型腔，成型腔位于中模具内，上模具和下模具的远端设有一组固定限位装置，固定限位装置内设有容纳腔，上模具和下模具的远端分别位于对应容...

本技术涉及模具技术领域，具体涉及一种圆棒冲压模具，包括：上模和下模，上模位于下模的上方，上模包括上模座和上模板，下模包括下模座和下模板，上模板和下模板相互靠近的一端均设有成型腔，上模板和下模板分别与上模座和下模座可拆卸连接，本技术中，上...

本发明涉及硬质合金涂层制备技术领域，公开了一种适配多晶粒尺寸硬质合金的HiPIMS涂层制备方法及其硬质合金切削工具。一种适配多晶粒尺寸硬质合金的HiPIMS涂层制备方法的主要步骤包括抽真空和加热保温、氩气辉光放电等离子刻蚀清洗、弧光电子...

本发明公开了一种TiAlN涂层及其制备方法，属于材料技术领域。其中，在氮气氛围下制备TiAlN涂层，包括以下步骤：S1：对基体进行表面预处理；S2：将基体放入HiPIMS真空室，并进行升温和保温处理；S3：在HiPIMS真空室内对基体进...

本发明涉及高结合力涂层制备技术领域，具体涉及一种高结合力TiN涂层的制备工艺，包括以下步骤：S1、对基体进行预处理；所述预处理包括打磨处理、抛光处理、清洗处理；S2、将预处理后的基体放入到真空腔体内，并调节真空腔体内的真空度，之后，对预...

本发明涉及高结合力氮化钛涂层制备技术领域，具体涉及一种高结合力氮化钛涂层及其制备方法，包括：S1、对刀具基体进行预处理；S2、采用高功率脉冲磁控溅射设备进行辉光清洗处理；S3、停止向真空室中通入高纯氩气，并将真空室内的真空度调整到0.0...