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卡利恩特AI公司专利技术
卡利恩特AI公司共有4项专利
双凹口蚀刻以减少微机电系统(MEMS)装置的下蚀制造方法及图纸
所公开的是与微机电系统(MEMS)相关的方法和装置。用于制造微机电(MEM)装置中机械柱的方法可以包括:在基材的第一侧上沉积掩膜层;在基材的该第一侧上蚀刻第一凹口;在基材上形成柱结构,其中,该柱结构的第一部分联接至第一凹口;在柱结构的第...
MEMS张紧结构及其制造方法技术
一种微机电(MEM)装置,可以包括:第一平台,包括第一平台反射表面;第一框架,枢转地联接到第一平台;第二框架,联接到第一框架;以及以下项中的一者或多者:位于第一框架和第二框架上的第二框架柔性结构或位于第一平台上的第一平台柔性结构,以及张...
减少镜间耦合的MEMS镜阵列制造技术
一种MEM阵列,可以包括:第一平台,包括第一平台反射表面,以及第二平台,包括第二平台反射表面。MEM阵列可以包括:基底晶片,位于第一平台和第二平台下方;以及第一框架,枢转性地耦合到第一平台。第一框架可以枢转性地耦合到第二框架,该第二框架...
光学扫描多路复用装置和方法制造方法及图纸
用于校正周期性信号的系统和装置包括:从光学扫描仪接收索引光检测数据;基于索引光检测数据确定光学扫描仪中的能移动镜的偏置误差;基于索引光检测数据确定能移动镜的相移误差;并且基于索引光检测数据确定能移动镜的振幅误差。
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