本发明公开了一种溅射装置，其包括：基板；靶，位于与所述基板面对的区域；多个磁体部，位于与所述靶面对的区域，在垂直方向上具有长度，并以水平方向相隔排列；其中，所述各个磁体部包括以所述长度方向被分割的多个分割型磁体，用于可独立地调节与所述靶...