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IMT有限公司专利技术
IMT有限公司共有2项专利
晶片背面或边缘的清洗装置及清洗方法制造方法及图纸
本发明公开晶片背面清洗装置。上述晶片背面清洗装置利用激光束去除晶片背面的异物,上述晶片背面清洗装置包括:旋转单元,用于使上述晶片以露出晶片背面的外围部的状态进行旋转;以及激光束照射单元,用于向上述晶片背面的外围部照射脉冲波激光束,并根据...
开钻大口径的深孔所用的钻具以及用于开钻所述孔的方法技术
一种用于在土壤中钻大直径深孔的钻具,该钻具包括一主机(1),该主机具有一旋转机(2),旋转机上装备有卡头(9)并且借助于直线运动缸(8)旋转并轴向移动一些钻杆(7),钻杆在其自由端具有一工具(6),所述钻具的特征在于:与旋转机(2)相连...
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