本公开涉及一种用于为衬底的表面提供层的化学气相沉积设备，该设备包括：反应器，该反应器具有用于容纳至少一个衬底的室；压力单元，该压力单元被配置成在该室的内部部分中产生第一预先确定压力。该压力单元包括具有至少一个液环真空泵的第一泵送级，以及...