本发明涉及用于检测半导体衬底中异常的方法，所述方法包括以下步骤：提供半导体衬底，制作所述衬底的检查图像Ｉ，通过图像处理从图像Ｉ生成图像Ｋ，通过使图像Ｋ二值化而生成图像Ｂ，以及使用图像Ｂ检视图像Ｉ；其特征在于，生成图像Ｋ的步骤包括将得自于...