本发明公开了一种藏药生产用原料清洗装置，涉及藏药清洗技术领域，包括过滤机构，所述过滤机构的左右两侧滑动连接于水箱的两侧内壁，所述水箱的底端设于清洗箱的顶部，所述清洗箱的顶部的中部垂直贯穿有清刷机构；所述清洗箱位于清刷机构正下方的左右两侧...