本发明提供有一种TSV蚀刻后清洗工艺，该TSV蚀刻后清洗工艺包括以下步骤：通过在兆频超声波装置和晶片之间的间隙中改变兆频超声波的相位，在整个晶片的每个点上提供均匀的声能；使用5x50μm蚀刻后TSV晶片，通过物理分析和电气测试进行实验验...

本发明提供有一种TiN硬掩模湿法去除工艺，该TiN硬掩模湿法去除工艺包括以下步骤：TiN的溶解，氧化剂将Ti3+转化为Ti4+以及Ti4+络合剂来克服表面氧化物/氮氧化物钝化膜；对于产品，氧化剂以高比例(9:1)加入，提供过量的过氧化氢...

本实用新型涉及进药管路技术领域，且公开了一种中央供药系统的进药管路，包括箱体和进药管，所述箱体的左右两侧均设置有两个安装块，两个所述安装块上均开设有安装孔，所述箱体的内部设置有水平设置有进药总管，所述箱体的底部开设有开口，所述开口处连接...

本实用新型涉及一种晶圆玻璃粉擦除加工装置，属于晶圆加工技术领域，包括装置支架，所述装置支架上设有晶圆夹持组件，所述晶圆夹持组件安装在装置支架的内部上方，所述装置支架内还安装有擦除组件。通过第一电机带动双向螺杆转动，改变两个夹持杆之间的距...

本实用新型属于清洗机技术领域，尤其是一种高清洗效率的有机清洗机，现提出如下方案，其包括底板，所述底板的顶部开设有凹槽，凹槽的两侧内壁上固定安装有同一个固定杆，固定杆上滑道安装有滑板，所述滑板的顶部延伸至凹槽的外侧并固定安装有清洗机，所述...

本发明属于清洗机设备技术领域，尤其是一种可对晶圆两面同时清洗的晶圆单片式清洗机，现提出如下方案，其包括底板，所述底板的顶部安装有两个对称设置的连接板，两个连接板相互靠近的一侧转动安装有同一个转板，所述连接板的一侧安装有第一伺服电机，第一...

本实用新型属于转移设备技术领域，尤其是一种晶圆涂覆玻璃粉的盛料转移设备，现提出如下方案，其包括底板，所述底板的顶部安装有放置板，放置板的顶部设有收纳槽，收纳槽内放置有晶圆，所述底板的顶部安装有连接板，两个连接板相互靠近的一侧均开设有固定...

本实用新型提供有一种晶圆单片式清洗机的废液回收确认装置，包括装置主体，所述装置主体一侧表面安装有清理门板，所述清理门板表面安装有把手，所述装置主体下表面安装有支撑基座，所述支撑基座下表面安装有活动转盘。该晶圆单片式清洗机的废液回收确认装...

本实用新型涉及去胶剂工艺槽技术领域，且公开了一种有机清洗机的去胶剂工艺槽，包括槽体，所述槽体的正下方设置有隔离箱，所述隔离箱的内部设置有电动推杆，所述电动推杆的推杆穿过隔离箱的顶部并与体的左下端相连接，所述隔离箱的底部连接有安装块，所述...

本实用新型涉及晶圆单片式清洗机技术领域，且公开了一种晶圆单片式清洗机的喷淋管结构，包括水箱、喷嘴和喷淋管道，所述水箱的外侧设置有安装箱，所述安装箱的四个靠拐角处均设置有安装块，四个所述安装块上均开设有安装孔，所述水箱的左上端连接有入水管...

本实用新型提供有一种晶圆单片式清洗机的化学药液配比系统，包括固定安装在清洗机上的混合筒和通过连接架固定安装在混合筒上方的储药箱以及固定安装在连接架上的控制器，所述混合筒的内部转动连接有与控制器之间进行电连接的搅拌机构，所述混合筒的一侧连...

本实用新型属于清洗机构设备领域，尤其是一种单片式晶圆清洗装置的清洗机构，现提出如下方案，其包括底板，所述底板上开设有固定腔，固定腔的底部内壁上固定安装有第一伺服电机，第一伺服电机的输出轴上固定套设有第一锥形齿轮，固定腔的两侧内壁上开设有...

本实用新型涉及清洗机技术领域，且公开了一种多功能晶圆单片式清洗机，包括底座和清洗室，所述底座的右上端连接有箱体，所述箱体的内部底端设置有清洗水箱，所述清洗水箱的右上端从左往右依次设置有第一加注管道和第二加注管道，所述第一加注管道和第二加...

本实用新型提供有一种单片式晶圆清洗装置的喷淋机构，包括固定安装在电机单片式晶圆清洗装置上的电机和固定安装在电机底端的固定座，所述固定座的内部分别固定套装有水管和气管，所述水管延伸出固定座外部的一端连通有第一软管。该单片式晶圆清洗装置的喷...

本发明属于清洗机设备技术领域，尤其是一种干进干出式全自动槽式酸碱清洗机，现提出如下方案，其包括清洗机，所述清洗机的两侧内壁上安装有同一个固定板，固定板的顶部设有多个工件，所述清洗机的两侧内壁上安装有同一个固定杆，固定杆上滑动安装有滑板，...

本发明公开了一种半导体清洗设备用烘干装置，包括：烘干箱和超声波发生器，超声波发生器固定设置在烘干箱的内部；烘干辅助组件，设置在烘干箱的内部且用于驱动半导体做圆周运动，烘干辅助组件包括多个第一转动圈和第二转动圈。本发明通过将超声波发生器启...