合肥升滕半导体技术有限公司专利技术

合肥升滕半导体技术有限公司共有30项专利

  • 本技术公开了一种精密陶瓷部件的吸附加工工装,包括气道盘,气道盘的下端设置有存气盘,存气盘的下端固定有进气部件,存气盘的上端面开设有存气腔,气道盘的上端面紧密贴合有磁垫体;密封机构,设置在气道盘与存气盘之间,用于保证两者之间的密封效果;气...
  • 本实用新型涉及挂具技术领域,尤其是一种半导体挡板阳极氧化用挂具,包括支架,所述支架上至少设有三个呈环形等间距分布的爪结构,定义多个爪结构环形分布所围绕的轴线为中心轴,所述爪结构包括固接在支架上的支撑板,所述支撑板端部固接有支撑轴,所述支...
  • 本发明涉及半导体匀气板生产设备领域,且公开了一种半导体匀气板生产工艺及其开孔毛刺去除装置,包括匀气板,匀气板包括第一匀气层,第一匀气层的下方固定连接有第二匀气层。清理组件、移动组件、去毛刺组件和调节组件的使用,使得设备可以对第一匀气层、...
  • 本发明公开了一种半导体零部件表面处理设备,具体涉及半导体零件表面处理技术领域,本发明由联动夹持机构进对多个半导体零部件行夹持固定,提高装夹效率,由驱动轴驱动安装板匀速转动,从而带动多个半导体零部件运动,均匀对半导体零部件的不同角度进行喷...
  • 本实用新型涉及治具技术领域,尤其是一种长腔体类产品加工治具,包括两个治具板,两个所述治具板分别位于长腔体产品两外侧,所述治具板沿长腔体产品长度方向设置,所述治具板沿其长度方向开设有若干个排屑孔,治具板开设有若干个位置与长腔体产品的螺纹孔...
  • 本实用新型涉及机械加工设备技术领域,尤其是一种用于定位工件的真空吸盘结构,包括定位平台,还包括若干个定位板,所述定位平台具有负压腔、负压吸孔,所述负压吸孔连接有吸气设备,所述定位平台顶面开设有若干个与负压腔连通的阶梯孔,每个所述阶梯孔均...
  • 本发明涉及一种光伏加热板及其加工方法,该加热板,包括板体,所述板体上由外向内依次设置有外区、中区和内区,所述外区、中区和内区上均设置有加热丝,加热丝呈首尾相连的盘管形状,所述外区、中区和内区上的加热丝分别呈现不同的盘管造型;该加热板的加...
  • 本发明涉及半导体加工技术领域,公开了一种半导体加工用真空吸附系统,包括真空发生模块和工装吸附模块;真空发生模块包括空气压缩机、储气罐、受控阀和真空发生器;空气压缩机与储气罐连接,储气罐与受控阀连接,受控阀与真空发生器连接;工装吸附模块与...
  • 本发明公开一种半导体陶瓷部件清洗装置及其清洗工艺,装置包括:超声清洗槽、移动板、环形喷气管、弧形喷水管、电热丝,工艺包括:S1、碱液浸泡;S2、一次热水浸泡;S3、喷砂作业;S4、化学浸泡;S5、二次热水浸泡;S6、过硫酸铵浸泡;S7、...
  • 本实用新型涉及高压冲洗设备技术领域,尤其是一种适用于干刻工艺的不锈钢部件高压冲洗装置,包括冲洗箱,所述冲洗箱转动连接有支撑架,所述支撑架位于冲洗箱内部的一端固定安装有轴线水平设置的C形支架,所述C形支架上固定安装有若干个呈圆环形分布且喷...
  • 本实用新型涉及气体扩散器清洁领域,具体公开了一种适用于气体扩散器清洗的超声脱脂槽体,包括清洁槽体,所述清洁槽体内设置有清洁液,所述清洁槽体内安装有超声波组件,每个所述超声波震板上设置有多个震子,所述清洁槽体的两端分别设置有进出料机构,所...
  • 本发明公开一种半导体器件电弧熔射工艺及其智能熔射装置,工艺包括:S1、膜层去除;S2、喷砂作业;S3、一次高压清洗;S4、一次烘干检测;S5、熔射作业;S6、二次高压清洗;S7、二次烘干检测。装置包括:底板、加工仓、角度调节框、熔射机。...
  • 本实用新型涉及磨床夹具技术领域,尤其是一种磨床用非金属产品的工装夹具,包括底支撑板,所述底支撑板上部固定安装有背支撑板,所述底支撑板上部滑动连接有能够靠近或者远离背支撑板的支撑块,所述支撑块与背支撑板之间设有铁块,所述铁块抵靠在支撑块靠...
  • 本实用新型涉及超声清洗装置技术领域,尤其是一种适用于干刻工艺的不锈钢部件超声清洗装置,包括超声清洗箱,所述超声清洗箱内转动连接有轴线水平设置的圆盘支架,所述超声清洗箱外安装有带动圆盘支架缓慢转动的旋转电机,所述旋转电机连接有控制其进行反...
  • 本实用新型涉及CNC加工技术领域,尤其是一种CNC加工通用工装底板,包括安装在CNC工作平台上的支撑板、若干个连接在支撑板上用于定位待加工产品的定位螺栓,所述支撑板上开设有若干个呈矩阵式分布的第二螺纹孔,所述支撑板开设有若干个阶梯通孔,...
  • 本实用新型涉及挂具技术领域,尤其是一种大面积面板产品专用的阳极挂具,包括两个挂具组件、用于悬挂挂具组件的横杆,所述挂具组件包括挂具头,所述挂具头悬挂在所述横杆上,所述挂具头固定安装有一个连接竖杆,所述挂具头包括水平杆部,所述水平杆部一端...
  • 本发明属于电解法除外的化学法金属材料清洗及除油技术领域,涉及一种酸蚀液及其应用。针对现有技术中酸蚀液酸度过高,易导致气体扩散器等化学气相沉积工艺部件扩孔变大,不均匀性增加,寿命降低,而酸度过低导致聚集异物清洗不完全,影响终产品质量的技术...
  • 本发明公开了一种适用于干刻工艺的碳化硅部件的清洗方法,涉及碳化硅部件清洗技术领域。包括以下步骤:S1、遮蔽处理;S2、有机浸泡;S3、有机擦拭;S4、去遮蔽;S5、水洗操作;S6、干冰操作;S7、CDA吹干;S8、检测处理;S9、超声处...
  • 本实用新型涉及石英锅加工领域,具体公开了一种石英锅专用的喷涂治具,包括石英锅套圈,所述石英锅套圈的下方设置有旋转底座,所述支撑柱的外侧位于所述旋转底座的上表面安装有限位导杆,所述限位导杆的外侧套接有升降套管,所述升降套管的内侧壁开设有卡...
  • 本发明公开了一种适用于物理气相沉积工艺的陶瓷绝缘环的清洗方法,涉及陶瓷绝缘环清洗技术领域。包括以下步骤:S1、遮蔽操作;S2、喷砂操作;S3、碱洗操作;S4、水洗操作一;S5、酸蚀操作;S6、水洗操作二;S7、超声处理;S8、检测操作;...