本申请涉及折射薄膜技术领域，主要涉及一种低吸收可变折射率薄膜及其制备方法。制备方法包括以下步骤：配置衬底预处理；将衬底置于多靶磁控溅射设备中，抽真空，通入氩气和氧气，预热衬底，启动等离子体源；启动钽靶与硅靶的溅射电源进行共溅射，沉积形成...

本申请涉及低表面能薄膜技术领域，主要涉及一种含氟低表面能薄膜及其制备方法。制备方法包括以下步骤：配置衬底，对衬底进行预处理；将衬底置于多靶磁控溅射设备，抽真空，先通入氩气和含氟气体，等离子体源对气氛预解离；启动复合靶材溅射，在衬底表面进...

本申请涉及折射膜制备技术领域，主要涉及一种碳锗共溅射的折射膜及其制备方法。其中碳锗共溅射的折射膜的制备方法包括以下步骤：配置衬底进行预处理；再将衬底置于多靶磁控溅射设备中，抽真空，通入氩气，等离子活化衬底；放入石墨靶和锗靶，保持通入氩气...