本发明涉及用于容纳及安装晶片(3)以将流体(9)施加至该晶片(3)的顶部(3o)的容纳装置，其具有以下特征：旋转式环区段(4)，其具有：d)旋转式上边缘(5)，e)旋转式凹部(6)及f)圆周壁(7)，其从该上边缘(5)延伸至该凹部(6)...