本发明公开一种用于清洗微电子基板的清洗溶液，特别是用于后ＣＭＰ或通孔成形清洗的清洗溶液。该清洗溶液包括氢氧化季铵、有机胺、腐蚀抑制剂和水。优选的清洗溶液包括氢氧化四甲铵、一乙醇胺、抗坏血酸和水，该清洗溶液的碱度大于０．０７３毫克当量碱／...

一种含水清洁组合物，其含有烷醇胺、氢氧化四烷基铵、非金属氟化物盐、防腐蚀剂（抗坏血酸或其衍生物单独或结合使用）、余量的水。这样的清洁组合物能在低温下有效地去除由等离子处理产生的残留物，这些残留物包括有机、金属有机材料、无机盐、氧化物、氢...