本发明公开一种二碲化钨薄膜的制备方法，包括下列步骤：步骤一：基底清洗：将基底依次经过去离子水、丙酮、乙醇、去离子水的超声清洗后，使用氮气枪将基底吹干备用；步骤二：在基底上使用磁控溅射方式镀一层厚度小于50nm的钨金属层；步骤三：在钨金属...