本发明的LED光照射装置(10)，具备：LED模块(11)，将多个LED元件(111)串联而成；电流设定部(13)，根据使用者所输入的资讯设定流通于LED模块(11)的电流的值；定电流电源(12)，向LED模块(11)供给由电流设定部(...

提供一种设置在用以使在气体流路内流动的气体电离以生成等离子的气体处理装置内，以防止产生漏电及非期望的放电的电介质阻挡放电型等离子生成装置。等离子生成装置(10)，具备；交流电源(14)、一方配置在气体流路内而另一方构成该气体流路的导电体...

本发明提供一种感应耦合型的等离子源，其具有构造简易、且可抑制装置所需成本的天线的冷却机构。等离子源(10)是于真空容器(21)内生成等离子的装置，其具备设于真空容器(21)的壁(211)的框(天线固定框(12))、及固定于上述框内的面状...

本发明的课题在于，提供一种能够在气体充分电离的状态下将等离子提供至等离子处理空间的等离子源。等离子源(10)是用于向进行使用了等离子的处理的等离子处理空间提供等离子的装置，具备：等离子生成室(11)；开口(12)，使等离子生成室(11)...

本发明公开一种等离子处理装置，其能够以比外部天线方式的等离子处理装置高的密度生成等离子，并且能够抑制作为内部天线方式的问题点的、杂质向被处理物的混入或颗粒的产生。本发明的等离子处理装置具有金属制的真空容器(11)、在真空容器(11)的上...

本发明目的在于廉价地提供一种维护检修容易且能够稳定地供给等离子的内部天线方式的等离子处理装置。本发明的等离子处理装置具备在真空容器(11)的上壁(111)上设置多个的天线单元(20)，天线单元(20)具备：从真空容器(11)的上壁(11...

本发明的目的在于提供一种溅镀装置，能够使高密度的等离子体高效地产生于溅镀靶表面，从而能够高速度成膜。并且，本发明的目的在于提供一种构造简单且溅镀靶的装卸及保养检查等较为容易的大面积溅镀装置及等离子体处理装置。本发明的溅镀装置是在真空容器...

本发明提供一种等离子体处理装置，其中，在真空容器内形成强的高频感应电场且能够使等离子体的密度分布更加均匀，并且，能够防止因颗粒的发生或高频天线的导体的溅射而引起的基体污染。本发明的等离子体处理装置(10)是基于高频放电的感应耦合方式的等...

本发明提供一种等离子体处理装置，其能够在真空容器内形成强的感应电磁场，且能够防止天线导体的溅射或温度上升及颗粒的产生。本发明的等离子体处理装置(10)具备：真空容器(11)；高频天线(21)，其配置于所述真空容器(11)的壁的内面(11...

本发明的目的是提供一种能够以较快的速度进行溅镀处理的溅镀薄膜形成装置。溅镀薄膜形成装置（１０）具备下述构成：真空容器（１１）、设于真空容器（１１）内的靶保持器（１３）、设成与靶保持器（１３）相对向的基板保持器（１４）、用以在靶保持器（１...

本发明的目的在于提供一种能够高效率地利用所产生的等离子体的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置（１０）的特征在于，具备：真空容器（１１）；设置成向真空容器（１１）的内部空间（１１１）突出的天线（等离子体产生机构）支承部（１２）；安...

本发明目的在于提供一种等离子处理装置，其对平面状被处理基体进行等离子处理，离子的利用效率及均匀性优良、且生产性高。本发明的等离子处理装置包含：真空容器（１１）；一个或多个的天线支撑部（等离子产生机构支撑部）（１２），其向真空容器（１１）...

本发明的目的在于提供一种高频天线单元，其可在真空容器内产生高密度的放电等离子。本发明的高频天线单元的特征为，包括用以流动高频电流的高频天线（１１）、被设置在高频天线之中位于真空容器内的部分的周围的绝缘体制作的保护管（１２）、及上述高频天...

在具有兼作真空容器一部分的长方形开口部的凸缘上，设有平板状的高频天线导体（１３），使其夹住围着该开口部的绝缘碍子框体并覆盖住该开口部。在这个构造中，高频天线导体的沿着长边的一端通过匹配箱连接高频电源，另一端接地，使得高频电流由高频天线导...