一种用来清除基材上的阻抗物、聚合物和／或刻蚀残余物的组合物，所述基材含有钛或钛合金，所述组合物含有羟胺或其衍生物以及至少一种具有如下通式（Ｉ）的化合物，其中：Ｒ＃＋［１］和Ｒ＃＋［３］各自独立地选自Ｈ、ＯＨ、ＣＯ＃－［２］Ｈ、卤素、Ｃ＃...