本发明公布一种金属基材蚀刻装置及蚀刻方法，涉及蚀刻的技术领域，包括输送带，其用于输送弧形的金属基材；机壳，其内部设置有供输送带穿过的输送通道，输送通道内的机壳中装配有喷涂组件；喷涂组件，其包括喷头、支撑杆件、连杆、摆臂、主动轴和被动轴，...