本发明公开了一种基于晶界扩散技术的稀有合金除垢器，包括铜基合金基体与镝元素富集晶界层；所述镝元素富集晶界层连续分布于铜基合金基体的内部晶界及表面，晶界层厚度为 8‑18μm，晶界层内镝元素的质量分数为 10%‑14%，除垢器整体中镝元素...