本发明公开了抗氧化铜基合金箔带，包括所述箔带的表面具有复合防护膜层；所述复合防护膜层由内至外包括等离子体电解氧化形成的过渡底层和电沉积形成的纳米晶锡铟合金封孔表层；所述复合防护膜层的总厚度为15‑30μm。本发明首创的“等离子体电解氧化...