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本实用新型公开一种用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器；涉及微纳加工技术领域，该填充阻隔器为一个嵌入基底的用于分流填充量的凹槽结构，位于键合胶层填充沟槽结构时所产生的膨胀中心线的中心位置；通过引入填充阻隔器结构，以降低键合过程中压力所产...该专利属于深圳先进技术研究院;广州中国科学院先进技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过深圳先进技术研究院;广州中国科学院先进技术研究所授权不得商用。