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稀释剂组合物制造技术
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文档序号:15098034
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本发明提供一种稀释剂组合物。本发明中的稀释剂特别是对用于旋涂硬掩膜的难溶性光刻胶具有优异的溶解特性和适当的挥发性,可在短时间内有效去除在边缘光刻胶去除工序等中粘附的多余的光刻胶,并且还可以应用于半导体基板的预湿工艺等,使得以少量光刻胶或者旋...
该专利属于东进世美肯株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东进世美肯株式会社授权不得商用。
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