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沟槽式功率晶体管结构及其制造方法技术
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文档序号:14641595
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一种沟槽式功率晶体管结构及其制造方法,其中沟槽式功率晶体管结构包括:基材、磊晶层、沟槽栅极结构、基体区以及源极区;磊晶层位于基材上,并具有一沟槽;沟槽栅极结构位于磊晶层的沟槽中,包括底部介电结构、栅极介电层与栅极;底部介电结构位于沟槽下半部...
该专利属于帅群微电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过帅群微电子股份有限公司授权不得商用。
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