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本发明一种低腐蚀性感光膜清洗液，提供了一种清洗液，其包括季戊四醇、氢氧化钾、有机胺、防腐蚀剂和溶剂。本发明提供的清洗液感光膜清洗能力强且对半导体晶片图案和基材腐蚀性较低。...
该专利属于苏赵珍所有，仅供学习研究参考，未经过苏赵珍授权不得商用。

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