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一种高密度ITO靶材的制备方法,其特征是:以化学共沉淀法制备的铟锡氧化物粉体为原料,添加由金属氧化物、磷酸化合物或磷氧化物和纳米SiO2组成的烧结剂,采用压滤成型的方法制备坯体,在氧气氛下于1450~1550℃烧结,保温时间为3~10小时,...该专利属于河北恒博精细陶瓷材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过河北恒博精细陶瓷材料有限公司授权不得商用。
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一种高密度ITO靶材的制备方法,其特征是:以化学共沉淀法制备的铟锡氧化物粉体为原料,添加由金属氧化物、磷酸化合物或磷氧化物和纳米SiO2组成的烧结剂,采用压滤成型的方法制备坯体,在氧气氛下于1450~1550℃烧结,保温时间为3~10小时,...