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本发明公开了一种压力掩蔽系统及其使用方法，所述方法是对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力清洁或压力涂布的方法，所述方法包括：使包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体与至少一个通路的第一侧流体连通；使得所述加压掩蔽流体从所述第一侧穿过所述至少一...
该专利属于通用电气公司所有，仅供学习研究参考，未经过通用电气公司授权不得商用。

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