【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
高纯度高密度WS2层片状纳米结构的制备方法,其特征在于:所述纳米结构为层片状WS2单晶;所述方法通过热蒸发WO3粉和S粉在镀钨的基片上沉积WS2层片状纳米结构,包括以下步骤:(1)在真空管式炉中,将分别装有WO3粉和S粉的氧化铝陶瓷坩埚、或者装有WO3和S混合粉的氧化铝陶瓷坩埚放置在炉中央的加热区域,在其气流下游距离装有WO3粉的坩埚10?30?mm处温度较低的区域放置表面镀有钨膜的基片;(2)在加热前,先对整个系统抽真空,然后向系统中通入高纯惰性载气,并重复多次,以排除系统中的空气;然后以10?35℃/min速率升温到最高加热温度,并保温数小时;在加热过程中,保持载气流量为50?300标准立方厘米每分钟,且整个加热过程在惰性载气保护下完成,最后自然降温到室温,即可在镀钨的基片上得到高纯度、高密度WS2层片状纳米结构。
【技术特征摘要】
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