避霜冷却单元制造技术

技术编号:9871226 阅读:115 留言:0更新日期:2014-04-04 00:17
本发明专利技术涉及热动力和化学工程领域,尤其是一种避霜冷却单元,其包括冷却器,在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁的被冷却流体一侧的表面上设泰富隆涂层。本发明专利技术所公开的避霜冷却单元,结构简单、制造成本低。

【技术实现步骤摘要】
避霜冷却单元
本专利技术涉及热动力和化学工程领域,尤其是一种避霜冷却单元。
技术介绍
在热动力和化学工程领域中,存在大量冷却含湿气体的操作单元,而在冷却过程中往往会产生霜和冰,从而严重影响冷却效果,甚至使冷却器堵塞不能正常工作,因此,需要专利技术一种新型含湿气体冷却器。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术提出的技术方案如下: 方案1:一种避霜冷却单元,包括冷却器,在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁的被冷却流体一侧的表面上设泰富隆涂层。方案2:—种避霜冷却单元,包括冷却器,在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁的被冷却流体一侧的表面设为超光表面。方案3:—种避霜冷却单元,包括冷却器,在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁的被冷却流体一侧的表面设为微晶表面。方案4:一种避霜冷却单元,包括冷却器,在所述冷却器的被冷却流体通道内设振荡源。方案5:在方案4的基础上,所述振荡源设为超声波源。本专利技术中,所谓的“泰富隆”是指以聚四氟乙烯为基体树脂的氟涂料。本专利技术中,所述超光表面的轮廓算数平均偏差Ra可选择性地小于6.30微米、小于3.20微米、小于1.60微米、小于0.8微米、小于0.4微米、小于0.2微米、小于0.1微米、小于0.05微米、小于0.025微米、小于0.012微米或者小于0.01微米。本专利技术中,所述微晶表面的每颗晶粒可选择性地由5000以下个晶胞并置而成。[0011 ] 本专利技术中,在所述冷却器中,吸收热量的流体称为冷却流体,排出热量的流体称为被冷却流体。本专利技术中,应根据热动力和化学工程领域的公知技术,在必要的地方设置必要的部件、单元或系统等。本专利技术的有益效果如下: 本专利技术所公开的所述避霜冷却单元,结构简单、制造成本低。【附图说明】图1所示的是本专利技术实施例1的结构示意图; 图2所示的是本专利技术实施例2的结构示意图; 图3所示的是本专利技术实施例3的结构示意图; 图4所示的是本专利技术实施例4的结构示意图, 图中: I传热壁、6泰富隆涂层、2超光表面、3微晶表面、4振荡源、5冷却器的被冷却流体通道。【具体实施方式】实施例1 如图1所示的避霜冷却单元,包括冷却器,在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁I的被冷却流体一侧的表面上设泰富隆涂层6。实施例2 如图2所示的避霜冷却单元,包括冷却器,在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁I的被冷却流体一侧的表面设为超光表面2。实施例3 如图3所示的避霜冷却单元,包括冷却器,在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁I的被冷却流体一侧的表面设为微晶表面3。实施例4 如图4所示的避霜冷却单元,包括冷却器,在所述冷却器的被冷却流体通道5内设振荡源4。具体实施时,所述振荡源4可选择性地设为超声波源。作为可变换的实施方式,本专利技术中的实施例1至实施例3均可参照实施例4,在所述冷却器的被冷却流体通道内增设振荡源4,并可选择的将所述振荡源设为超声波源。显然,本专利技术不限于以上实施例,根据本领域的公知技术和本专利技术所公开的技术方案,可以推导出或联想出许多变型方案,所有这些变型方案,也应认为是本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种避霜冷却单元,包括冷却器,其特征在于:在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁(1)的被冷却流体一侧的表面上设泰富隆涂层(6)。

【技术特征摘要】
2012.12.29 CN 201210587946.31.一种避霜冷却单元,包括冷却器,其特征在于:在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁(I)的被冷却流体一侧的表面上设泰富隆涂层(6)。2.一种避霜冷却单元,包括冷却器,其特征在于:在所述冷却器的冷却流体和被冷却流体之间的传热壁(I)的...

【专利技术属性】
技术研发人员:靳北彪
申请(专利权)人:摩尔动力北京技术股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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