【技术实现步骤摘要】
石英晶体频率片清洗工艺
本专利技术涉及电子
，具体涉及一种石英晶体频率片清洗工艺。
技术介绍
石英晶体振荡器、谐振器广泛应用于各种数字类电子产品中，市场需求巨大。该类产品生产所用石英晶体频率片的清洗对产品技术指标存在重大影响，目前一般采用如下四种清洗方法:I)人工超声清洗:按照清洗流程，人工进行，并在清洗过程中手工摇动清洗网篮，避免石英频率片聚集。该方法效率低、人工劳动强度大，清洗效果难以达到统一。2)半自动超声清洗:按照清洗流程，设置连续的超声清洗槽，当达到工艺规定的清洗时间后，人工将石英晶体频率片转移到下一清洗槽。该方法人工劳动强调得到改善，但是在清洗过程中产生晶片聚集现象，不能使所有晶片的表面得到充分清洗。3)全自动超声清洗:设备一般是使用厂家自行开发或合作开发，不需要中途干预。该方法在清洗过程中为增强效果，采用强水流冲刷晶片，生产中需要消耗大量水源。4)无机酸清洗:采用盐酸和双氧水按一定比例配置成溶液，在加热条件下进行。该方法在实际生产中会产生刺激性气体，且在加热条件下溶液容易沸腾，危害到操作员工，需要特殊的劳动保护措施。因此在提高产品质量、保护员工安全、环境保护、节约资源等方面的综合考虑下，亟需一种有效的清洗工艺方法。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种节能环保的石英晶体频率片清洗工艺。本专利技术所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:一种石英晶体频率片清洗工艺，包括以下工艺步骤，I)将石英晶体频率片放入一道清洗机中，在清洗水中加入中性的表面活性剂，清洗10-20分钟；2)捞出，浙干水，放入二道清洗机，在二...
【技术保护点】
一种石英晶体频率片清洗工艺，其特征在于：包括以下工艺步骤，1）将石英晶体频率片放入一道清洗机中，在清洗水中加入中性的表面活性剂，清洗10‑20分钟；2）捞出，沥干水，放入二道清洗机，在二道清洗机中加入浓度为18%、温度为60‑80℃的碱液，清洗10‑20分钟；3）捞出，沥干水，放入三道清洗机，在三道清洗机中加入弱酸性清洗溶液，清洗10‑20分钟；4）捞出，沥干水，放入四道清洗机，用纯水喷淋的方式清洗1‑10分钟，捞出，沥干水即可。
【技术特征摘要】
1.一种石英晶体频率片清洗工艺，其特征在于:包括以下工艺步骤， 1)将石英晶体频率片放入一道清洗机中，在清洗水中加入中性的表面活性剂，清洗10-20分钟； 2)捞出，浙干水，放入二道清洗机，在二道清洗机中加入浓度为18%、温...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢小东，
申请(专利权)人：铜陵日科电子有限责任公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。