光学材料用组合物及其制造方法技术

技术编号:9850552 阅读:122 留言:0更新日期:2014-04-02 16:45
根据本发明专利技术,通过含有具有2个β-环硫丙基、具有特定结构的(a)化合物,具有1个β-环硫丙基和1个缩水甘油基、具有特定结构的(b)化合物,(c)多异氰酸酯,和(d)多硫醇的光学材料用组合物,可以抑制透镜的剥离痕迹残留的不良问题的产生。本发明专利技术的光学材料用组合物优选为还含有(e)硫的方式。本发明专利技术的另外的实施方式为一种光学材料的制造方法,其特征在于,其向上述光学材料用组合物中,相对于前述(a)化合物、(b)化合物、(c)多异氰酸酯和(d)多硫醇的总量,添加0.0001质量%~10质量%的作为聚合催化剂的鎓盐,并进行聚合固化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的光学材料用组合物,适用于塑料透镜、棱镜、光纤、信息记录底座、滤光器等光学材料,尤其适用于塑料透镜。
技术介绍
塑料透镜在轻量且韧性方面充分、染色也容易。塑料透镜特别要求的性能为低比重、高透明性及低黄色度、作为光学性能的高折射率和高阿贝数、高耐热性、高强度等。高折射率能够使透镜薄壁化,高阿贝数能够使透镜的色差降低。近年,为了实现高折射率和高阿贝数,报告了许多具有硫原子的有机化合物。其中已知具有硫原子的聚环硫化物的折射率和阿贝数的平衡良好(专利文献I)。进而,为了提高强度,报告了向聚环硫化物导入硫代氨基甲酸酯而成的光学材料(专利文献2、3)。但是导入硫代氨基甲酸酯时,耐热性降低、切削加工时产生臭气、产生透镜白浊、以及产生被称为脉纹的聚合不均,因此,报告了限定组成比或限定粘度的手法(专利文献4~6)。另外,为了维持折射率,报告了向聚环硫化物导入硫而成的光学材料,为了提高耐冲击性,报告了向聚环硫化物导入硫代氨基甲酸酯而成的光学材料(专利文献7)。但是,对于向聚环`硫化物导入硫和硫代氨基甲酸酯而成的光学材料而言,在其制造时存在发泡、放热之类的问题。因此,为了抑制这些问题,报告了使环硫化物与硫原子的预聚物、和具有异氰酸酯基的化合物与具有巯基的化合物的预聚物反应而制造光学材料的方法(专利文献8)。另外,为了抑制所得到的透镜的白浊、被称为脉纹的聚合不均,报告了规定调制方法的方法(专利文献9)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平09-110979号公报专利文献2:日本特开平11-352302号公报专利文献3:日本特开2001-131257号公报专利文献4:日本特开2001-330701号公报专利文献5:日本特开2005-220162号公报专利文献6:日本特开2007-090574号公报专利文献7:日本特开2002-122701号公报专利文献8:日本特开2004-339329号公报专利文献9:国际公开W02011/007749号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是,上述光学材料、特别是眼镜用塑料透镜的制造中,存在由于剥离痕迹残留的不良问题所导致的成品率的降低,需要改善该问题。剥离痕迹残留的不良问题指的是聚合固化后源自模具的剥离痕迹残留于透镜的不良问题,若产生该问题则不能作为透镜使用。特别是在度数高的负透镜中,显著发现剥离痕迹残留的不良问题,要求改善该问题。即,本专利技术的目的在于,提供在制造具有高折射率的光学材料时,可以改善由于剥离痕迹残留的不良问题所导致的成品率的降低的光学材料用组合物、该光学材料用组合物的制造方法、光学材料的制造方法、光学材料以及光学透镜。特别是对于度数高的负透镜提供剥离痕迹残留的不良问题的抑制。用于解决问题的方案本专利技术人等鉴于这种状况而进行了深入地研究,结果发现通过以下的手段可以解决上述问题,从而完成了本专利技术。即,<1> 一种光学材料用组合物,其含有下述(a)化合物、下述(b)化合物、(C)多异氰酸酯和⑷多硫醇,(a)化合物:具有下述(I)式所示结构的化合物本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光学材料用组合物,其特征在于,其含有下述(a)化合物、下述(b)化合物、(c)多异氰酸酯和(d)多硫醇,(a)化合物:具有下述(1)式所示结构的化合物式(1)中,m表示0~4的整数、n表示0~2的整数,(b)化合物:具有下述(2)式所示结构的化合物式(2)中,m表示0~4的整数、n表示0~2的整数。FDA0000455312720000011.jpg,FDA0000455312720000012.jpg

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.09.10 JP 2012-198428;2012.12.26 JP 2012-282081.一种光学材料用组合物,其特征在于,其含有下述(a)化合物、下述(b)化合物、(C)多异氰酸酯和(d)多硫醇, (a)化合物:具有下述(I)式所示结构的化合物 2.根据权利要求1所述的光学材料用组合物,其中,所述(c)多异氰酸酯为选自由异佛尔酮二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、间亚二甲苯二异氰酸酯、对亚二甲苯二异氰酸酯、间四甲基亚二甲苯二异氰酸酯、对四甲基亚二甲苯二异氰酸酯、1,3_双(异氰酸酯甲基)环己烷、1,4-双(异氰酸酯甲基)环己烷、双(异氰酸酯甲基)降冰片烯和2,5- 二异氰酸酯甲基-1,4- 二噻烷组成的组中的至少一种以上化合物,所述(d)多硫醇为选自由双(2-巯基乙基)硫醚、2,5-二巯基甲基-1,4-二噻烷、1,3_双(巯基甲基)苯、1,4_双(巯基甲基)苯、4-巯基甲基-1,8-二巯基-3,6-二硫杂辛烷、4,8- 二巯基甲基-1,11- 二巯基-3,6,9-三硫杂十一烷、4,7- 二巯基甲基-1,11- 二巯基-3,6,9-三硫杂十一烷、5,7- 二巯基甲基-1,11- 二巯基_3,6,9-三硫杂十一烷、1,1,3,3_四(巯基甲硫基)丙烷、季戊四醇四巯基丙酸酯、季戊四醇四硫代乙醇酸酯、三羟甲基丙烷三硫代乙醇酸酯和三羟甲基丙烷三巯基丙酸酯组成的组中的至少一种以上化合物。3.根据权利要求1或2所述的光学材料用组合物,其中,设所述(a)化合物、(b)化合物、(c)多异氰酸酯和(d)多硫醇的总量为100质量%时,(a)化合物为50~95质量%、(b)化合物为0.05~20质量%、(c)多异氰酸酯为I~25质量%、(d)多硫醇为I~25质量%,并且⑷多硫醇的SH基与(c)多异氰酸酯的NCO基的比值、SP (d)多硫醇的SH基数/(c)多异...

【专利技术属性】
技术研发人员:冈田浩之堀越裕舆石英二嘉村辉雄
申请(专利权)人:三菱瓦斯化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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